Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN #293627026 à vendre en France

TEL Trias TI/TIN est un équipement de procédé de gravure/cendres conçu pour effectuer une gravure ou une cueillette de haute précision des substrats semi-conducteurs. Il est conçu pour être utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs à couches minces, et est idéal pour la gravure ou la cueillette de films ultra-minces ou de substrats stratifiés. L'équipement est composé d'une chambre de procédé et d'un support de substrat très précis, et offre une combinaison unique de haut débit et un niveau élevé de précision et de stabilité de surface. La chambre de procédé est un système à double chambre, avec un procédé et une chambre d'échappement, séparés par un diaphragme flottant. Cela permet de contrôler et de mesurer avec précision les pressions, les températures et les débits à l'intérieur de la chambre. Ce système est particulièrement utile pour la gravure de haute précision, car il minimise la formation de marques d'usure et d'endommagement du substrat. La température de la chambre est dynamique, ce qui permet des températures allant de 200 ° C à 400 ° C, ce qui permet diverses utilisations, telles que les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). La pression de la chambre est également réglable, et peut être réglée sur une plage de 1 à 10 Torr. Le Trias TI/TIN offre également un support de substrat très précis, capable de supporter des substrats jusqu'à 4 pouces de diamètre. Le support de substrat se suspend à l'aide de paliers à air, et fournit un support de substrat de niveau lors du processus de gravure/cueillette. Le support de substrat est également susceptible de se déplacer selon trois axes, ce qui permet une mise en forme et un alignement précis du substrat au cours du processus. TOKYO ELECTRON Trias TI/TIN est un outil de pointe pour la gravure/cueillette de substrats semi-conducteurs, et offre une combinaison unique de haute précision et de haut débit, ce qui en fait un outil idéal pour une large gamme d'applications. La conception à double chambre, les réglages dynamiques de température et de pression et le support de substrat très précis offrent aux utilisateurs une large gamme d'options de gravure et d'ashing d'une gamme de substrats pour différentes applications.