Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9049825 à vendre en France
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![TEL / TOKYO ELECTRON Trias Photo Utilisé TEL / TOKYO ELECTRON Trias À vendre](https://cdn.caeonline.com/images/tel_trias_422241.jpg)
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Vendu
ID: 9049825
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
CVD System, 12"
(2) Chambers: CVD & ALD
Process: NiOx, HfOx
Trias cluster: (2) Loadports
EX Module, PM2
LM: Front end / UPS
Main power distribution (MPD)
Transfer module, TM
High-k CVD reactor (PM4):
Thermal based deposition
Plasma capability: No
Includes: Spares
High-k CVD reactor, PM2:
Retrofitted for thermal ASFD (ALD) based deposition
Plasma capability: No
Includes:
Ozone capability
LDS Systems:
(3) Schumacher chemguard LDS (Air products)
Multi candi LDS (Air liquid)
PM2:
Hafnium
Nickel
Titaan
Vanadium
PM4:
Hafnium
Nickel
Titaan
Ruthenium
Strontium
PM4 Transformer box (Hi-K) option elec box:
(2) Touch screens ozonizer, PM2
(3) H2O Boxes: Air products schumacher CGII500 LDS
Process used: NiOx
Complete platform + (2) chambers CVD & ALD
Trias cluster
(2) Loadports
Manuals included
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias est un équipement multi-fonctionnel de graveur/asher conçu pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il est doté d'un procédé avancé de cendrage alcalin qui utilise des sources de plasma à couplage inductif (PIC) pour le nettoyage à sec à haute vitesse et à haute densité des échantillons. Le système offre également une plate-forme de gravure à sec avancée pour les appareils ultra-haute densité et offre une suite de procédés pour la gravure des appareils III-V et des structures de nanowire. TEL Trias dispose d'une chambre entièrement réglable et d'une machine de distribution de gaz qui permet de contrôler et d'optimiser avec précision les conditions de la chambre et les paramètres de gravure tels que le débit de gaz, le taux de gravure, la température et la pression. Cela garantit une excellente répétabilité et uniformité des résultats de gravure. L'outil dispose également d'un mécanisme robotique intégré pour automatiser efficacement le chargement et le déchargement des échantillons, ce qui élimine le besoin de chargement et de déchargement manuels des échantillons. De plus, TOKYO ELECTRON Trias offre des outils intégrés de diagnostic et de surveillance des processus et des capacités d'optimisation en temps réel, permettant un contrôle plus précis des processus et des rendements améliorés. Le modèle Trias supporte un large éventail de gaz de gravure, y compris le chlore, le fluor, le trifluorure de chlore et le tétrafluorure d'azote. Il dispose également d'un équipement de livraison de gaz in situ pour des performances de processus cohérentes et une excellente répétabilité. Le processus de gravure peut être facilement réglé pour répondre aux exigences spécifiques du dispositif. Le système dispose également d'une unité de surveillance spectrale multi-longueurs d'onde qui permet d'optimiser les résultats de gravure pour des besoins spécifiques du dispositif. Cette machine est capable de mesurer le processus de gravure en temps réel en utilisant la spectroscopie optique d'émission et comprend un ensemble d'analyse de données pour optimiser le processus de gravure. TEL/TOKYO ELECTRON Trias utilise une technologie de sécurité et de contrôle environnemental de pointe pour assurer un fonctionnement propre, sec et sûr pour les processus de gravure. Il a également été conçu pour une empreinte compacte et peut facilement s'adapter à un laboratoire de recherche standard, ce qui en fait un choix idéal et rentable pour les besoins actuels de recherche et de fabrication d'appareils.
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