Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9094190 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 9094190
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
CVD System, 12" (3) TDK TAs3000 FOUP loaders SPA-N components Chamber parts: Manufacturer Model Description TEL - Slot antenna TEL - Susceptor heater TEL - Quartz liner TEL - Susceptor cover TEL - Baffle cover MKS 626B01TBE Capacitance manometer (133Pa) MKS 626B11TBE Capacitance manometer (133Pa) MKS 623B-28316 Capacitance manometer (133kPa) V TEX IRF-07084-2-01 Gate valve Vacuum system: Manufacturer Model Description EDWARDS STP-A1603B Turbo molecular pump Fuji Imvac HV-40N-R Throttle valve on a high pressure line VAT 65046-PH52-AHS1 Throttle valve on a low pressure line SMC XLA-40G-M9 Hi-vac valve on a high pressure line SMC XLA-63A-M9 Hi-vac valve on a low pressure line Exhaust system: Manufacturer Model Description Tokyo Flow Meter FF-MRA85-1-TYL1 Flow meter for cooling water FF-MRA80-1-TYL1 Toyokokagaku RS-2000CA / RS-2000F-6417 Water leak sensor SMC INR-497-100-X048 Chiller Others: Manufacturer Model Description Nihon Koushuha MKN-502-3S2B03-OSC H-Wave power supply unit Nihon Koushuha AMC-95Q1-CONT5 Auto matching unit 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias est un graveur/ascher à plasma conçu pour la production et la recherche-développement de dispositifs semi-conducteurs. TEL Trias etcher dispose d'une source de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) multi-canons, permettant une gravure rapide et très détaillée sur plusieurs couches de matériaux. Il dispose également d'une technologie brevetée de polarisation négative appliquée (ANB) pour contrôler la densité du plasma, permettant une profondeur de gravure uniforme sur tous les matériaux du substrat. L'etcher est facile à utiliser, avec un contrôle automatisé des processus et des paramètres programmables, permettant un fonctionnement avec un faible coût et un rendement maximal. TOKYO ELECTRON La température du substrat de Trias etcher peut être programmée jusqu'à 370C pour une gravure précise. Le procédé fonctionne sous basse pression, et la gravure se fait dans une chambre à vide à l'aide de la puissance de polarisation contrôlée par le courant. Trias etcher est capable de produire des gravures de haute précision et a une répétabilité de processus élevée et de petites erreurs de processus. Il peut également graver avec précision des matériaux tels que du silicium polycristallin, du SiO2 et du III-V. TEL/TOKYO ELECTRON Trias etcher a mis en place des mesures anti-contamination qui comprennent un suscepteur de saphir, un gaz de purge fluorocarbone et un moniteur de température de la source. L'etcher est conçu pour minimiser la contamination des particules et dispose d'un système avancé de filtration à faible teneur en particules pour une propreté supplémentaire. Avec son débit élevé, sa facilité de fonctionnement et son contrôle sophistiqué du plasma, TEL Trias est un graveur haut de gamme pour tout procédé de production ou de recherche et développement de dispositifs semi-conducteurs.
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