Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9118411 à vendre en France

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 9118411
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12" Cassette to cassette (2) TiCl4 Ti (2) TiCl4 TiN Transfer Load lock: A and B KOGANEI Gauge STEC VC131004ST20 Vaporizer Pump: LLM Dry pump TM Dry pump (5) Dry pumps Valve: FUJIKIN Manual valve (N2-1/N2-2/N2-PF/Ar) Manual valve (Dry air line) (2) LLM1.2 Door valves (2) V TEX I-I-98009-2-1 Gate valves KITZ Gate valve Regulator: VERIFLO SQ-MICRO-HF-50-2P-UPG-601 (N2-1/N2-2) VERIFLO SQ-MICRO-130E-50-UPG-6405 (N2-PF) VERIFLO SQ-MICRO-602PUPGPA (Ar) KOGANEI SQ-MICRO-30-2P-UPG-6028 VERIFLO SQ-MICRO-602PUPGPA (Dry air line) Sensor: (2) SUNX DP2-22 Pressure sensors LEYBOLD PS.12/PS.32 TSR211S LEYBOLD PS.31 INFICON VSA100A LEYBOLD TSR211S Pirani sensor Filters: N2-PF Dry air line Manometer: MKS 626A01TDE LEYBOLD CDG160A-S 1330PA LEYBOLD CDG160A-S 133PA RF Power: KYOSAN HFK15Z-TW1 RF Power supply KYOSAN EAKIT RF Matcher MFC: Make / Model / Gas / Value HITACHI / SFC1470FAMC-4UGLN / CLF3 / 500 SCCM HITACHI / SFC1480FAMC-4UGL / Ar / 2 SLM HITACHI / SFC1481FAMC-4UGLN / He / 5 SLM HITACHI / SFC1480FAPDMC-4UGL / NH3 / 600/2000 SCCM HITACHI / SFC1480FAMC-4UGL / N2 / 2 SLM - / - / Ar 300 SCCM / - / N2 300 SCCM 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias est un graveur/asher à grande vitesse conçu pour donner des résultats de gravure cohérents sur un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les matériaux semi-conducteurs et les substrats céramiques. Il utilise la technologie avancée de gravure sous vide pour permettre une précision et une répétabilité élevées. L'graveur/asher peut être utilisé dans diverses applications, telles que la gravure par pulvérisation, la planarisation photorésistante après gravure par gravure ou arrêt, le soulagement des contraintes du film et la formation d'évidements dans des zones difficiles d'accès. Le graveur/asher est équipé d'un équipement sous vide qui permet de contrôler avec précision la zone de gravure/ashing. Il dispose d'une chambre de gravure avancée et d'un bouclier sous vide qui maintient les niveaux de la salle blanche à l'intérieur du système. En outre, il est équipé d'une unité optique et d'une sonde d'auto-collimation (ACP) pour mesurer et régler avec précision les conditions de gravure. Ce graveur/asher est équipé d'un puissant générateur RF haute fréquence pour fournir de l'énergie à la gravure d'une large gamme de matériaux. Le processus de gravure est surveillé et contrôlé par une machine informatique intégrée, qui peut également être utilisée pour affiner les paramètres de gravure en fonction du matériau traité. L'outil est également équipé d'un logiciel pour ajuster les paramètres de traitement, mesurer la vitesse de gravure et compiler les résultats de traitement. Cet etcher/asher est équipé de diverses fonctions et outils qui lui permettent d'être utilisé pour une variété d'applications. Par exemple, il a un atout gazeux pour introduire des gaz réactifs dans la chambre de gravure, ainsi qu'un modèle de livraison chimique pour ajouter des produits chimiques lors de la gravure. En outre, il est équipé d'une chambre d'anodisation haute température qui peut être utilisée pour graver et planer des plaquettes et d'autres matériaux. Sur le plan de la sécurité, TEL Trias a été conçu avec des dispositifs de sécurité tels qu'un arrêt d'urgence spécial (E-STOP) pour arrêter le graveur/asher, un équipement d'échappement sans ozone et une fonction d'arrêt automatique qui va éteindre le générateur RF en cas de problèmes de conformité. Le système dispose également d'une unité de sécurité automatique pour détecter les niveaux dangereux d'ozone. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON Trias est un graveur haute performance capable d'obtenir des résultats de gravure cohérents sur un large éventail de matériaux. Il est équipé d'une technologie de gravure avancée, de caractéristiques de sécurité et de divers outils pour la manipulation de différents processus de gravure et de cendrage, ce qui en fait un excellent choix pour diverses applications de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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