Occasion TEL / TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS #293767179 à vendre en France

ID: 293767179
Style Vintage: 2007
Etcher Process: Oxide (5) Loadports iH160 Pumps: Chamber position / Gases Unit 1 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 2 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 3 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar Unit 4 / C4F6, C4F8, N2, O2, CH2F2, CHF3, CF4, Ar 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS est un équipement de graveur/asher de pointe conçu pour le traitement de substrats dans l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement de pointe offre un large éventail de capacités pour répondre aux exigences des procédés actuels de fabrication de semi-conducteurs, ce qui en fait un outil essentiel pour des applications de gravure et de nettoyage de haute précision. TEL TSP-305555SSSS est équipé d'un système de distribution de gaz de pointe qui permet un contrôle précis des processus de gravure et de nettoyage. L'unité dispose de plusieurs canaux de gaz, chacun avec un contrôle de débit indépendant, permettant la personnalisation des mélanges de gaz et des débits pour optimiser les performances du processus. Ce niveau de contrôle est essentiel pour obtenir des résultats uniformes et reproductibles sur une variété de matériaux et de tailles de substrat. L'une des caractéristiques clés de TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS est sa machine de génération de plasma de pointe, indispensable pour créer les espèces réactives nécessaires aux processus de gravure et de nettoyage. L'outil utilise la puissance RF haute fréquence pour générer un plasma qui peut être adapté aux besoins spécifiques de chaque procédé. Cette flexibilité permet de manipuler un large éventail de matériaux, du silicium et du dioxyde de silicium aux métaux et aux diélectriques, avec précision et efficacité. En plus de ses capacités de production de plasma, TSP-305555SSSS est équipé d'un actif sous vide robuste qui assure un environnement de traitement stable. Le modèle dispose d'une pompe turbomoléculaire haute performance qui assure une évacuation rapide de la chambre de traitement, créant les conditions de basse pression nécessaires pour une gravure et un nettoyage de haute qualité. L'équipement sous vide comprend également des mécanismes avancés de contrôle de la pression pour maintenir les conditions de processus souhaitées tout au long du cycle. Un autre aspect important de TEL/TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS est son système avancé de manutention des plaquettes, qui est conçu pour accueillir des substrats de différentes tailles et formes. L'unité dispose d'un bras robotique qui peut positionner rapidement et avec précision les plaquettes dans la chambre de traitement, assurant un alignement et un traitement précis. Ce niveau d'automatisation permet non seulement d'améliorer la répétabilité des processus, mais aussi de réduire les risques d'endommagement des plaquettes lors de la manutention. TEL TSP-305555SSSS est également équipé d'une interface conviviale qui permet aux opérateurs de programmer et de surveiller facilement l'équipement. La machine dispose d'un écran tactile qui fournit une rétroaction en temps réel sur les paramètres du processus, tels que les débits de gaz, les niveaux de pression et les conditions plasmatiques. Cette interface intuitive permet aux opérateurs d'effectuer des ajustements à la volée, garantissant une performance et une productivité optimales du processus. Dans l'ensemble, TOKYO ELECTRON TSP-305555SSSS est un outil de graveur/asher polyvalent et fiable qui offre des performances et un contrôle inégalés pour les applications de traitement des semi-conducteurs. Ses caractéristiques avancées, notamment un atout précis pour la livraison de gaz, la technologie de production de plasma, le modèle sous vide, les capacités de manutention des plaquettes et l'interface conviviale, en font un outil indispensable pour obtenir des résultats de haute qualité dans la fabrication des semi-conducteurs. Avec ses capacités de pointe et sa conception robuste, TSP-305555SSSS établit une nouvelle norme pour les équipements de gravure et de nettoyage dans l'industrie des semi-conducteurs.
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