Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD #293646424 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
TEL/TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD est un type d'équipement de graveur/asher utilisé pour créer des films semi-conducteurs de haute qualité pour une multitude d'applications. Le système se compose de deux composants principaux - une chambre de gravure de plasma et une chambre de dépôt à paroi chaude. La chambre de gravure utilise une recette préprogrammée pour graver des motifs avec polarisation plasma, tandis que la chambre de dépôt peut créer des films ultra-minces via l'une de plusieurs sources de plasma. De plus, l'unité est équipée d'un chargeur automatisé de cassettes de plaquettes, permettant des transferts de plaquettes sans soudure. TEL UNITY IIE 855 DD est intégré avec un moniteur de processus et un traceur de courbe, offrant aux utilisateurs un écran LCD couleur de cinq pouces qui peut être utilisé pour surveiller les conditions de processus in situ. La machine est également équipée d'un moniteur in situ, assurant un contrôle précis de la température du substrat, de la pression, des débits d'oxygène et d'autres paramètres de processus pour créer le film désiré pour une application donnée. TOKYO ELECTRON UNITY II E-855DD est un outil de graveur/dépôt intégré, permettant aux utilisateurs de graver et de déposer par lots en une seule fois. Il comprend un contrôleur de débit massique intégré qui est utilisé pour ajuster et surveiller avec précision à la fois le mélange de gaz envoyés dans la zone formant le plasma et le débit total. L'actif est capable de générer des densités de plasma allant jusqu'à 10 ^ 13 cm ^ -3 sur une large gamme de fréquences et de mini potentiels de gravure de plasma auto-polarisés avec une précision de réglage allant jusqu'à 0.5V. Pour réduire la contamination par les particules et améliorer la qualité des films, TEL Unity IIe 855DD utilise une technologie avancée de nettoyage des sources de plasma qui n'utilise pas de produits chimiques sévères provenant de l'extérieur de la chambre de gravure. Ce modèle comprend une procédure automatique de nettoyage in situ qui peut nettoyer la source de plasma avant et pendant le cycle de gravure. Enfin, l'équipement comprend la technologie avancée de dépôt à haut débit DOVE, qui combine une source de plasma à haute densité unique avec une chambre de gravure à basse pression. Cette technologie permet le dépôt de films conformes plus serrés avec des taux de gravure plus élevés et une meilleure couverture par étapes. Unity IIe 855DD est un outil idéal pour les utilisateurs opérant dans les domaines du dépôt et de la gravure de films semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques