Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Vesta #9315096 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Vesta est une machine de gravure haute performance (ou asher) conçue pour l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise une combinaison de gravure plasma et de technologie de collage pour créer des caractéristiques précises et répétables sur les surfaces des plaquettes de silicium et d'autres substrats. La machine se compose d'une base, d'une chambre de gravure plasma et d'un poste de collage, ainsi que de composants supplémentaires pour le contrôle thermique, le refroidissement et la sécurité supplémentaire. La chambre de gravure plasma abrite les matériaux réactifs, typiquement une anode en téflon et une cathode chauffée. Le plasma est généré dans la chambre, permettant une gravure contrôlée du substrat. La chambre est reliée à un système de contrôle de gaz, qui permet l'introduction de gaz réactifs selon les besoins pour le fonctionnement de la chambre. Le poste de collage permet l'assemblage de composants séparés par soudage par fil, assurant une meilleure intégrité structurale du produit fini. Les capteurs de température sont situés dans tout le système, ce qui permet un contrôle précis de la température de la chambre et des pièces. TEL Vesta est conçu pour fonctionner dans un environnement sous vide, offrant la gravure la plus cohérente et la plus précise. Cela permet un meilleur contrôle des taux de gravure et des profils, ainsi qu'un degré plus élevé de définition et de répétabilité des bords. Avec des commandes de mouvement avancées, la machine peut graver avec précision les caractéristiques jusqu'à 6 millionièmes de pouce de largeur. La machine est également équipée de dispositifs de sécurité, tels qu'un ensemble de capteurs de gaz et de soupapes de surpression qui protègent les opérateurs et évitent les dommages dus à la surpression de la chambre. La machine est complètement enfermée dans un grand cadre métallique, ce qui permet une protection maximale pendant le fonctionnement. TOKYO ELECTRON Vesta est un système de gravure et de collage de pointe offrant un fonctionnement fiable et des résultats cohérents. Avec ses caractéristiques avancées de contrôle et de sécurité, il est bien adapté pour produire des caractéristiques de haute qualité sur les plaquettes de silicium et autres substrats dans l'industrie des semi-conducteurs.