Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Vigus harc #9244885 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Le harc Vigus est un graveur ou asher conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. L'équipement est à base de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma hyperfréquence (PECVD) et sert à déposer des couches minces de silicium, de germanium et d'autres matériaux sur des plaquettes sous forme d'oxyde, de nitrure ou de couche métallique. L'etcher présente une source de plasma qui est constituée d'une cellule de décharge RF couplée par une basse pression. Le système est équipé d'une alimentation multi-modes qui permet de graver avec une large gamme de gaz plasmatiques tels que l'oxygène, le tétrafluorométhane, le CF4, le chlore et l'azote, ainsi que des combinaisons de ces gaz. La chambre de gravure est équipée d'une paroi interne résistante chimiquement et d'une unité de vide hermétique. Une unité de chauffage spéciale est reliée à la chambre pour minimiser la température du processus de gravure, permettant ainsi d'optimiser les résultats de gravure. TEL Vigus harc etcher est adapté pour accepter des plaquettes de différentes tailles, de deux à douze pouces de diamètre. La machine est conçue pour être facile à utiliser et comprend une console de contrôle avec une interface utilisateur graphique (interface graphique) pour accéder à tous les paramètres de l'outil, rendant les recettes de processus commodes à programmer et à modifier. L'etcher est également conçu pour être très fiable, répondant aux normes industrielles requises pour la sécurité et la qualité des produits. Son actif de surveillance avancée est capable de détecter rapidement tout problème et d'alerter l'opérateur, en cas d'anomalies. Le modèle de communication embarqué permet également d'envoyer rapidement des notifications à d'autres appareils et systèmes connectés, ce qui permet une meilleure surveillance et un meilleur contrôle des processus. En conclusion, TOKYO ELECTRON Vigus harc etcher est une solution de gravure fiable et flexible avec une sécurité et une qualité de produit améliorées. Sa source de plasma avancée et ses capacités de traitement en font un outil idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs.