Occasion TRION Phantom Rie / Orion III #293820297 à vendre en France

TRION Phantom Rie/Orion III est un équipement de pointe conçu pour la fabrication de semi-conducteurs, la recherche et le développement. Cet outil polyvalent offre des capacités de processus avancées pour la gravure précise et le nettoyage de divers matériaux, ce qui en fait un équipement essentiel dans la fabrication de la microélectronique, les dispositifs MEMS, la photonique, et d'autres technologies de pointe. Phantom Rie/Orion III est équipé d'une gamme de caractéristiques qui permettent un traitement hautement contrôlé et uniforme des substrats. Le système utilise une source de plasma radiofréquence (RF) pour générer des espèces réactives pour les processus de gravure et de cueillette. La source de plasma RF est capable de produire du plasma haute densité avec un excellent contrôle de l'énergie ionique, assurant l'élimination efficace et sélective des matériaux. L'un des points forts de TRION Phantom Rie/Orion III est sa flexibilité dans la manipulation d'un large éventail de substrats et de matériaux. L'unité peut traiter différents types de substrats, dont le silicium, le verre, les composés III-V, les métaux et les polymères, avec une haute sélectivité et uniformité de gravure. Cela le rend idéal pour graver des structures de dispositifs critiques sans endommager les couches sous-jacentes ou créer des profils de flanc indésirables. Phantom Rie/Orion III dispose d'une configuration de chambre configurable qui permet à la fois des processus RIE et asher dans la même plate-forme. La machine peut être facilement adaptée aux exigences changeantes des processus, ce qui en fait un outil polyvalent pour les activités de recherche et de développement. En outre, la conception de la chambre intègre des systèmes avancés de distribution de gaz et de contrôle de la température pour assurer un contrôle précis des paramètres du processus et la reproductibilité. Pour améliorer encore ses capacités de traitement, TRION Phantom Rie/Orion III est équipé de systèmes de contrôle avancés et d'interfaces logicielles. L'outil offre une interface conviviale pour la programmation facile des recettes et le suivi des processus. Les exploitants peuvent surveiller de près et ajuster les paramètres clés du processus, tels que les débits de gaz, la pression, la puissance et la température, pour obtenir les résultats souhaités. Phantom Rie/Orion III intègre également des dispositifs de sécurité pour assurer la protection des opérateurs et la fiabilité des équipements. L'actif est conçu avec des emboîtements et des alarmes pour prévenir les accidents et les dommages de l'équipement pendant l'exploitation. En outre, le modèle est équipé d'un équipement de vide robuste et de diagnostics plasma pour maintenir la stabilité et la répétabilité du processus. En résumé, TRION Phantom Rie/Orion III est un système de graveur/asher de pointe qui offre des capacités de processus avancées pour la fabrication de semi-conducteurs et des applications de recherche. Avec sa polyvalence, sa fiabilité et son contrôle de précision, cette unité est un outil essentiel pour les processus de gravure et d'ashing dans la fabrication d'appareils et de matériaux électroniques avancés. Ses fonctionnalités avancées et son interface conviviale en font un choix idéal pour les activités de recherche et de développement nécessitant un enlèvement précis et uniforme des matériaux.