Occasion ULVAC CSE-1100 #9055174 à vendre en France

ULVAC CSE-1100 est un système de graveur/asher avancé pour des applications exigeantes dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système est capable de réaliser une gravure à structure fine dans une grande variété de matériaux dont le silicium, le germanium et l'arséniure de gallium. CSE-1100 dispose d'une chambre de serrure à chargement simple de 150 mm et d'une capacité de plaquette améliorée de 300 mm qui est bien adaptée pour une production à haut volume. Le noyau d'ULVAC CSE-1100 est sa source plasmatique. Cette puissante source de plasma a une conception unique à long terme pour une productivité prolongée. La source dispose également d'un régulateur intégré de bilan gazeux qui permet de régler avec précision la pression de la chambre et les débits de gaz pour optimiser les performances de gravure. Le processeur ultrarapide et la mémoire de grande capacité du CSE-1100 sont conçus pour les applications de gravure et peuvent facilement gérer des processus de gravure complexes. Le processeur comprend également un éditeur de graphe intégré, permettant de créer et de manipuler facilement des recettes pour chaque application. Une boîte d'interface permet de contrôler et de surveiller les multiples systèmes ULVAC CSE-1100, y compris le contrôleur, le moniteur de processus et les systèmes de sécurité. Il comprend également une interface RS485 pour la connexion à un réseau ou à un PC pour le fonctionnement à distance. La conception avancée de CSE-1100 comprend également un logiciel sophistiqué comprenant une large gamme de fonctionnalités pour le contrôle et l'optimisation des processus. Ses recettes de gravure innovantes et son contrôle logique flou permettent d'obtenir des résultats de gravure précis avec une variation minimale des paramètres de processus. ULVAC CSE-1100 est un système de gravure puissant avec une multitude de fonctionnalités conçues pour augmenter à la fois le débit et la qualité de la production pour la gravure semi-conductrice avancée. Sa source de plasma haute performance, son processeur intelligent et ses logiciels sophistiqués en font un outil idéal pour la gravure de structures complexes.