Occasion ULVAC Enviro III #9014614 à vendre en France

ULVAC Enviro III est un équipement avancé de graveur/asher conçu pour des applications de gravure par ions réactifs profonds (DRIE) à haut rendement. Il utilise une combinaison de RF et DC Ion Source Technology, qui permet l'usinage de substrats à des cadences allant jusqu'à 8nm/min. Cet etcher dispose d'un système de porte-plaquettes exposé, permettant à l'opérateur de charger des substrats sur le plateau de quartz sans gaz extérieur ni alimentation sous vide. Enviro III dispose également d'un contrôleur intégré et d'une interface utilisateur pour un fonctionnement simple et précis de l'unité. La machine peut graver plusieurs types de matériaux et combine des fonctionnalités DRIE avancées, telles que la commande « déclenchée » qui fournit le plus haut niveau de cohérence de processus. ULVAC Enviro III dispose également d'un moniteur de pression pour permettre à l'opérateur d'assurer une atmosphère de processus uniforme avec un minimum de ramassage d'oxygène et de variation de processus. Enviro III est conçu pour les applications spécialisées de gravure DRIE à haut débit. Il peut être utilisé pour la création de masques résistants à la gravure de polymère, la gravure des trous de contact des parois latérales, la gravure profonde des micro-canaux étroits et profonds, la tranchée profonde, et d'autres opérations avancées de micro-usinage de plaquettes. L'ULVAC Enviro III est équipé de dispositifs de sécurité avancés tels que des dispositifs d'accrochage sous pression et sous vide, et est conçu pour offrir un maximum de fiabilité, de répétabilité et de faibles coûts d'entretien. Il dispose d'un outil de nettoyage/purge automatique intégré pour garder l'actif disponible pendant de plus longues périodes sans entretien fréquent. Enviro III est fait pour être une solution de gravure robuste et fiable qui peut traiter des substrats jusqu'à 8 pouces de diamètre, et a une charge maximale de plaquette de douze. Ce modèle peut être utilisé dans une grande variété d'applications de gravure, y compris MEMS, fabrication de semi-conducteurs haut de gamme, capteurs MEMS, actionneurs MEMS, et beaucoup d'autres. ULVAC Enviro III etcher combine des capacités de fabrication avancées, la facilité d'utilisation, le fonctionnement efficace, et la maintenance minimale pour des performances supérieures sur une grande variété d'applications de gravure. L'équipement peut toujours graver des substrats jusqu'à 8nm/min, et ses caractéristiques avancées et sa conception en font une solution de gravure fiable et performante pour une variété d'applications spécialisées.