Occasion ULVAC NA1000 #9150936 à vendre en France

ULVAC NA1000 est un graveur/asher spécialement conçu pour répondre aux besoins d'un traitement lithographique de haute précision. L'équipement est capable de graver et d'aspirer avec un minimum d'aberrations grâce à ses mécanismes mécaniques et électriques de rétroaction étroitement régulés. L'etcher/asher utilise une source de plasma avancée du faisceau d'ions pour créer précisément un plasma de haute densité capable de produire un faisceau d'ions avec un niveau d'énergie précis, permettant un processus de balisage à haute résolution. NA1000 est équipé d'un moniteur automatique de compensation coaxiale du faisceau (ABCMTM) qui s'ajuste constamment en cas d'erreur lors du traitement et assure une localisation précise. La machine est également équipée d'un système de lentilles à focalisation variable pour ajuster uniformément la taille du faisceau des ions multiétages. Cela le rend idéal pour les processus de gravure et d'ashing impliquant des surfaces courbes. De plus, ULVAC NA1000 offre un laser à haute puissance capable de délivrer jusqu'à 550 watts à une fréquence de répétition d'impulsions de 300kHz, ce qui fournit une excellente uniformité du faisceau et une excellente réponse énergétique pour un processus de gravure/cendres ultra-haute puissance. NA1000 est conçu pour des applications en salle blanche et dispose d'une chambre de travail fermée pour assurer un fonctionnement ultra propre. L'unité est également équipée d'une pompe à vide pour maintenir une basse pression de vide et réduire le risque de contamination du procédé. La machine est capable de traiter des températures allant de -80 ° C à 700 ° C, ce qui la rend adaptée à une variété de procédés. Compatible avec les cartes à mémoire Quartz et polyimide, l'etcher/asher est livré avec une gamme d'accessoires en option, y compris un bras de manutention robotique pour faciliter le positionnement et le chargement/déchargement des plaquettes. Dans l'ensemble, ULVAC NA1000 etcher/asher est une machine de précision très avancée conçue pour fournir des résultats optimaux pour les processus de lithographie. Ses mécanismes de rétroaction mécanique et électrique de qualité supérieure, son objectif de focalisation variable et son laser de grande puissance assurent un comportement constant et précis dans un environnement sûr et propre.