Occasion ULVAC NE-950EXk #9410744 à vendre en France

ULVAC NE-950EXk est un graveur/doseur avec une chambre à vide capable de traiter le plasma dans une zone de 200mm x 200mm. Il crée un processus plasma d'hydrogène ou d'oxygène avec une grande précision pour une gravure/gravure précise ou une activation de surface. NE-950EXk est équipé d'une source de production d'énergie, d'une source de mélange de gaz de procédé, d'une source de pompage, d'une source de régulation de température et d'une source de surveillance de la température. ULVAC NE-950EXk est également équipé d'une pompe à vide basse température, ce qui le rend idéal pour la gravure et la modification de surface des substrats organiques. Son système de traitement plasma offre une profondeur efficace d'environ 10um, permettant un contrôle précis de la surface des couches minces. NE-950EXk offre également un large éventail de paramètres de processus pour la gravure et le traitement de surface, tels que le temps et le courant pour la gravure, la température pour l'activation de la surface, et le débit de gaz. En outre, ULVAC NE-950EXk peut être utilisé en mode manuel ou semi-automatisé. Le mode manuel permet un contrôle de base des paramètres, tandis que le mode semi-automatisé permet de définir des paramètres de processus personnalisés et de compenser automatiquement les substrats de forme irrégulière. Le pilote offre également des capacités de stockage de données et de mise à jour logicielle, offrant ainsi une facilité d'utilisation lors de la gravure et du traitement de surface. En outre, un générateur vectoriel de 1000 points est inclus pour permettre l'établissement du processus de gravure, tandis que le refroidissement simultané peut être utilisé pour assurer la meilleure qualité possible du substrat. La chambre à vide haute de NE-950EXk garantit également que les processus de gravure/traitement de surface sont effectués dans un environnement propre. Dans l'ensemble, ULVAC NE-950EXk est un graveur/analyseur qui fournit une gravure précise/activation de surface sur plusieurs substrats avec une large gamme de paramètres de processus. Il dispose d'une chambre à vide élevé pour un environnement de traitement propre et peut être utilisé en mode manuel et semi-automatisé. En outre, les générateurs vectoriels fournissent une précision supplémentaire, tandis que les systèmes de refroidissement aident à maintenir les substrats de meilleure qualité pendant la gravure.