Occasion ULVAC NE-950EXz #293797486 à vendre en France

ULVAC NE-950EXz est un équipement de pointe conçu pour le traitement précis et performant de divers matériaux dans le semi-conducteur, le MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et d'autres industries connexes. Ce système intègre des technologies de pointe et des fonctionnalités qui permettent un traitement efficace et uniforme des substrats avec des résultats de gravure et de cueillette supérieurs. L'un des points saillants de NE-950EXz est sa polyvalence de traitement, qui permet un large éventail d'applications, y compris l'élimination des résines photosensibles, le nettoyage de surface, la gravure de matériaux diélectriques et métalliques, et d'autres processus critiques dans la fabrication de semi-conducteurs et la recherche. Cette flexibilité est obtenue grâce à une combinaison de conception matérielle innovante, d'algorithmes sophistiqués de contrôle des processus et d'interfaces logicielles conviviales qui facilitent la personnalisation des paramètres de processus pour différentes applications. L'unité dispose d'une source de plasma à double fréquence, à couplage inductif (ICP), qui génère un plasma hautement réactif avec une excellente densité d'ions et une distribution d'énergie pour l'élimination et la gravure efficaces des matériaux. La source du PIC est complétée par une source de plasma en aval pour un contrôle supplémentaire de la chimie du procédé et des propriétés plasmatiques, ce qui permet d'améliorer la sélectivité, l'uniformité et la répétabilité des gravures. En outre, ULVAC NE-950EXz est équipé d'une chambre de gravure ionique réactive (RIE) robuste avec des capacités précises de contrôle de la température et de gestion du débit de gaz. Cette chambre est conçue pour accueillir différents types et tailles de substrat, des plaquettes aux échantillons individuels, assurant la compatibilité avec différentes exigences de processus. La machine dispose également de capacités avancées de détection d'endpoint, qui permettent une surveillance en temps réel du processus de gravure et la détermination précise des signaux d'endpoint pour améliorer le contrôle et la reproductibilité du processus. En plus de ses capacités de gravure, NE-950EXz est également capable d'effectuer des processus de cendrage pour l'élimination des contaminants organiques, des photorésistants et d'autres résidus des surfaces du substrat. La chambre de cueillette de l'outil est équipée de systèmes dédiés de contrôle du débit de gaz et de dispositifs de gestion de la température pour assurer des conditions de cueillette optimales et minimiser les dommages aux matériaux sensibles pendant le processus. En outre, ULVAC NE-950EXz est conçu avec un haut degré d'automatisation et de fiabilité pour faciliter le fonctionnement efficace, mains libres et minimiser les temps d'arrêt. L'actif comprend des outils de diagnostic avancés, des capacités de surveillance à distance et des routines de maintenance automatisées qui aident à optimiser la performance des modèles, à prolonger la durée de vie des composants et à réduire les coûts opérationnels pour les utilisateurs. Globalement, NE-950EXz représente une solution de pointe pour les applications de gravure et d'ashing dans la fabrication de semi-conducteurs de pointe, la recherche et le développement. Sa combinaison de sources de plasma haute performance, de capacités de processus polyvalentes, de fonctions de contrôle précises et de fonctionnalités d'automatisation avancées en font un outil précieux pour obtenir des résultats de processus supérieurs, améliorer la productivité et faire progresser le développement de nouvelles technologies et dispositifs semi-conducteurs.