Occasion ULVAC uGmni-200E #293818645 à vendre en France

ULVAC uGmni-200E est un équipement sophistiqué de graveur/asher à plasma conçu pour le traitement nanométrique de haute précision dans des applications avancées de fabrication et de recherche de semi-conducteurs. Cet outil de pointe offre une combinaison de caractéristiques innovantes, de construction robuste et de contrôle précis pour répondre aux exigences exigeantes des procédés modernes de fabrication de semi-conducteurs. Avec une empreinte compacte et des capacités polyvalentes, uGmni-200E est une solution fiable et efficace pour divers processus de gravure et de cueillette de plasma. Au cœur du système ULVAC uGmni-200E se trouve sa chambre à vide haute performance, conçue pour maintenir des conditions de vide ultra-élevé essentielles pour un traitement plasma précis. La chambre est construite à partir de matériaux de haute qualité pour assurer la durabilité et les performances à long terme. De plus, la conception de la chambre intègre des mécanismes avancés de régulation du débit de gaz et de régulation de pression pour supporter un large éventail de conditions de processus et d'applications. L'un des points forts de l'unité uGmni-200E est sa capacité avancée de production et de contrôle de plasma. La machine dispose d'une source de plasma RF à la pointe de la technologie qui délivre du plasma uniforme à haute densité sur la surface de la plaquette pour des opérations de gravure et de cueillette très efficaces. La source de plasma RF est alimentée par une unité d'alimentation RF sophistiquée qui permet un réglage précis des paramètres du plasma tels que la densité, l'uniformité et la distribution d'énergie. L'outil ULVAC uGmni-200E intègre un ensemble complet d'outils de contrôle et de surveillance des processus pour garantir des résultats de traitement cohérents et fiables. L'actif est équipé d'outils de diagnostic plasma avancés, y compris la spectroscopie optique d'émission (OES) et la spectrométrie de masse, qui permettent de surveiller en temps réel les espèces plasmatiques et les conditions de processus. En outre, le modèle dispose d'un équipement sophistiqué de détection d'endpoint qui permet un contrôle précis des processus de gravure et d'ashing basé sur des signaux de rétroaction en temps réel. UGmni-200E système offre un degré élevé de flexibilité et des options de personnalisation pour répondre à des exigences de processus et des objectifs de recherche spécifiques. L'unité supporte un large éventail de gaz de procédé, y compris les produits chimiques à base de fluor, l'oxygène, l'argon et d'autres gaz réactifs couramment utilisés dans le traitement des semi-conducteurs. En outre, la machine dispose d'un outil polyvalent de manutention de plaquettes qui prend en charge diverses tailles et matériaux de plaquettes, le rendant adapté à diverses applications de recherche et de fabrication. En termes d'interface utilisateur et de fonctions de contrôle, l'actif ULVAC uGmni-200E offre une interface logicielle conviviale qui permet le fonctionnement intuitif et le contrôle de tous les paramètres du modèle. L'équipement est équipé d'un système complet de gestion des recettes qui permet aux utilisateurs de créer et de personnaliser facilement des recettes de processus pour différentes applications. En outre, l'unité dispose de capacités d'automatisation avancées, y compris des options de surveillance et de contrôle à distance, pour rationaliser le flux de travail et améliorer l'efficacité. Globalement, uGmni-200E machine graveur/asher plasma représente une solution de pointe pour des applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Grâce à sa haute performance de production de plasma, à son contrôle précis des processus et à ses capacités polyvalentes, l'outil est bien adapté à un large éventail de tâches de recherche et de fabrication nécessitant une gravure précise et un cendrage à l'échelle nanométrique. Sa construction robuste, ses outils de surveillance sophistiqués et son interface conviviale en font un outil fiable et précieux pour les installations de fabrication de semi-conducteurs et les laboratoires de recherche qui cherchent à obtenir des résultats de traitement de haute qualité et à faire progresser l'innovation dans le domaine de la technologie des semi-conducteurs.