Occasion ULVAC UNA 2000 #163814 à vendre en France

ULVAC UNA 2000 est un graveur et asher conçu pour des performances supérieures dans une variété de procédés de fabrication. Cet équipement est bien adapté à la fabrication de dispositifs microélectroniques de précision, et offre un contrôle robuste des processus de gravure des gaz réactifs et non réactifs et des processus de cendres. L'UNA 2000 utilise une chambre de verrouillage de charge pour les opérations de déchargement de charge avec une plaque de chauffage/refroidissement, une plaque photomasque et une plaque de substrat. Il comprend un effecteur d'extrémité de 6 pouces à 8 pouces de type amas de plaquettes simples et une plaque de suscepteur RF à balayage avec buse à cloche en quartz pour la flexibilité du processus. Une gamme complète de mécanismes de contrôle de processus est fournie, y compris un collecteur de gaz adressable ASTAR II pour jusqu'à 64 sources de gaz avec une capacité de commutation automatique de gaz et des régulateurs de débit massique pour le réglage des débits de gaz. Le système contient également une pompe à vide, des manches et des boucliers en graphite, un piège à ligne chaude, une pompe cryogénique, un panneau de gaz et un logiciel de contrôle des processus. ULVAC UNA 2000 est également livré avec une unité de contrôle et un contrôleur Electro-faisceau supplémentaires, qui permettent aux utilisateurs de programmer l'implosion à haute énergie des substrats cibles. Un menu de diagnostic étape par étape permet d'assurer un fonctionnement sûr et fiable de la machine. L'UNA 2000 est conçu avec un mode de wafer unique et un mode de traitement par lots, permettant à l'utilisateur de basculer entre des substrats individuels ou par lots. Cette fonctionnalité permet de simplifier le chargement et le déchargement du substrat. L'outil est également livré avec une injection de gaz de haute précision et un actif de chauffage de substrat RF pour une gravure/cueillette efficace et uniforme des cibles. ULVAC UNA 2000 est capable de traiter jusqu'à 2000 substrats par heure et fournit un contrôleur de cluster optionnel avec écran tactile pour un contrôle facile du mouvement et de l'état des plaquettes. Il comprend un moniteur pour afficher la pression du gaz de procédé, le débit de gaz, et le moment pour le contrôle du processus. Le modèle est en mesure de fournir des recettes de processus à travers le langage de recette standard (SRL) pour la configuration de processus rapide et les téléchargements de logiciels. UNA 2000 est un graveur et asher efficace et fiable qui fournit des performances supérieures dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. L'équipement offre un contrôle robuste des procédés, une gamme complète de mécanismes de contrôle des procédés, une injection de gaz de haute précision et un système de chauffage par substrat RF, tout en fournissant une seule plaquette et un processus par lots. Cette unité fournit aux utilisateurs une solution rapide, sûre et robuste pour des processus de fabrication exigeants.