Occasion VACTRONIC 2000-M #161821 à vendre en France
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ID: 161821
PECVD Plasma etch tool
Nupro shut offs
Tylan Range 500SCCM
Vacuum & Temperature Control Panel
Mass Flow Controller
Vac. General CMLA-11
4-Flo-Master FM-2001
RF5S RF Plasma Controller
2-Vacuum Chambers (9”OD, 7 ¾ “ID @ 8 1/4/”deep)
MDC Conflats with glass and KF vacuum ports.
VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M etcher/asher est une machine polyvalente et performante conçue pour la gravure et la cueillette de substrats semi-conducteurs. Il utilise une combinaison de pulvérisation physique et de gravure chimique pour créer des motifs de surface dans un large éventail de matériaux, y compris l'aluminium, le silicium, la céramique, l'arséniure de gallium et les polysilèces. La machine est équipée d'une chambre de gravure modulaire, d'un équipement de refroidissement et d'un système de distribution de gaz qui permet un contrôle précis des paramètres de gravure. La chambre de gravure de VACTRONIC™ 2000-M est construite en acier inoxydable et est hermétiquement scellée pour assurer un fonctionnement sûr et efficace. A l'intérieur de la chambre se trouve une unité unique de buses qui assurent une répartition homogène de l'étamant, sous forme de vapeur ou de gaz, au substrat. La machine de distribution de gaz dispose d'un outil avancé de vannes et de dispositifs de dosage, permettant un contrôle précis du débit de gaz de trempe. Cet actif comprend également un modèle de distribution de gaz assisté par vide pour s'assurer qu'aucun gaz de trempe n'est gaspillé ou laissé dans la chambre après la gravure. L'équipement de refroidissement de VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M assure une répartition égale de la température à l'intérieur de la chambre de gravure. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure, assurant une gravure précise et cohérente des substrats. Le système de refroidissement permet également de minimiser la quantité de chaleur générée lors de la gravure. La conception polyvalente de la machine permet de l'utiliser pour des applications de gravure verticale et horizontale. L'unité de distribution de gaz et les paramètres de gravure garantissent la précision et la répétabilité des gravures, ce qui permet des rendements et des débits plus élevés. La conception modulaire permet une installation et un fonctionnement faciles. VACTRONIC™ 2000-M graveur/asher est un choix idéal pour la gravure d'une grande variété de matériaux, de l'aluminium et du silicium à l'arséniure de gallium et aux polysilèces. Sa construction modulaire permet une installation et un fonctionnement faciles et les systèmes avancés de distribution de gaz et de refroidissement permettent un contrôle précis des paramètres de gravure, garantissant la précision et la répétabilité. La machine est également capable de produire des motifs de gravure haute résolution qui sont idéales pour une variété d'applications, ce qui en fait un choix idéal pour la gravure et l'ashing de substrat.
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