Occasion VEECO / MICROETCH 1201 #293628796 à vendre en France

ID: 293628796
Ion Beam Etcher (IBE).
VEECO/MICROETCH 1201 est un graveur et asher à plasma profond conçu pour les applications avancées de gravure plasma, ashing et gravure ionique réactive profonde (DRIE). L'équipement est conçu pour être utilisé dans une grande variété d'industries, comme la recherche, le développement et la production industrielle. VEECO 1201 dispose d'un design robuste et fiable, MICROETCH 1201 a une faible empreinte et s'adapte dans presque n'importe quel environnement de laboratoire, rendant facile le placage et la gravure de petits composants. Le système exécute une série de processus de gravure pour la lithographie complexe, y compris la gravure profonde/broyage ionique, gravure IC/MEMS, gravure semiconductrice, ablation laser et micro-fabrication. 1201 assure le contrôle de précision du processus de gravure grâce à son intelligence artificielle embarquée avancée (IA) et à ses microprocesseurs. L'unité AI optimise automatiquement les paramètres de gravure et contrôle précisément le débit du processus. La machine est capable de graver avec un large éventail de gaz, y compris les fluorocarbones, le méthane, l'azote et l'oxygène. VEECO/MICROETCH 1201 dispose également de deux alimentations électriques indépendantes permettant de réaliser simultanément plusieurs tâches de gravure. L'outil fonctionne avec une chambre de plénum basse pression et une plate-forme de substrat pilotée directement qui minimise la contamination et les dommages de surface. VEECO 1201 est construit avec une chambre intérieure qui est conçue pour la stabilité thermique, l'isolement de la pression extérieure, et un environnement atmosphère sécurisé. MICROETCH 1201 aide également à réduire les temps d'arrêt en utilisant des commandes de gaz à dépassement rapide, assurant un débit rapide et fiable du processus de gravure. Avec 1201, les utilisateurs ont accès à un large éventail d'outils de surveillance des processus et d'acquisition de données, tels que la spectroscopie en temps réel de l'graveur, la spectroscopie de masse en temps de vol et le contrôle de processus de base et avancé pour permettre aux utilisateurs de peaufiner le processus. Pour des applications de recherche avancées, VEECO/MICROETCH 1201 propose une plateforme de spectroscopie intégrée pour mesurer le flux massique, la température du substrat et la durée de vie du plasma. En outre, l'actif est équipé d'un microscope à fibre optique multi-vue pour surveiller les résultats de gravure. En conclusion, VEECO 1201 est un modèle de gravure fiable et intuitif qui peut s'adapter à un large éventail de processus de gravure. Il dispose d'une interface conviviale et est construit avec des composants et des fonctions fiables pour assurer une gravure cohérente et précise à chaque fois. L'équipement MICROETCH 1201 fournit aux utilisateurs un accès à une variété d'outils de surveillance et de contrôle de processus avancés pour peaufiner le processus de gravure plasma et obtenir un niveau plus élevé de contrôle sur leurs tâches de gravure.
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