Occasion YES / GLEN R1 #9049956 à vendre en France
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ID: 9049956
Plasma etcher
RF Power supply with matching network
Lark sequential microprocessor
(3) Plasma gas inputs
Granville phillips 275
Backfill input
Inside dimensions: 16" x 16" x 16"
(8) 14" x 14" trays
115 V, 60 Hz, 1.4 A, 175 W.
OUI/GLEN R1 est un équipement avancé de gravure et de cendrage chimique conçu pour la préparation des plaquettes avant les procédés de fabrication des semi-conducteurs. Il a été développé par YES Technology et possède la capacité de réaliser des processus de gravure sèche et de cendrage chimique dans un seul système. L'unité contient un graveur à ions réactifs (RIE) pour les procédés de gravure à sec et un plasma inductif couplé (ICP) pour le cendrage chimique. Tous les procédés peuvent être réalisés dans un environnement gazeux inerte à l'aide d'une grande variété de gaz. La machine est équipée d'un certain nombre de caractéristiques de sécurité, telles que la protection contre les surpressions et la limitation du courant du faisceau d'ions, pour assurer le fonctionnement sûr de l'outil. OUI R 1 combine des fonctionnalités avancées d'automatisation et de logiciel pour fournir des performances de gravure et de cendrage hautement reproductibles. Il dispose d'une interface informatique d'architecture ouverte pour le contrôle, l'acquisition de données et l'optimisation des processus. L'actif est également capable de cendre thermiquement, en utilisant un élément de chauffage résistif qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 9500 ° C (17 000 ° F). GLEN R-1 est équipé d'un microscope électronique à balayage à émission de champ pour assurer un alignement précis de l'échantillon sur le substrat avant le traitement. Il intègre également un chargeur robotique pour faciliter la manipulation des échantillons. Le modèle est équipé de nombreuses fonctions de diagnostic, de surveillance et de sécurité pour s'assurer que l'équipement fonctionne de façon fiable et sûre. Le système est également capable de stocker et de suivre l'information sur les recettes dans une base de données sécurisée afin d'assurer la cohérence des résultats des processus. R1 est très flexible, ce qui le rend bien adapté à une grande variété d'applications de gravure et de cueillette de semi-conducteurs. Sa combinaison de fonctionnalités automatisées sophistiquées et de sécurité et de contrôle de pointe le rendent parfaitement adapté aux procédés avancés de production de semi-conducteurs.
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