Occasion YES / GLEN R1 #9172427 à vendre en France

Fabricant
YES / GLEN
Modèle
R1
ID: 9172427
Plasma cleaner.
OUI/GLEN R1 est un graveur ou asher conçu pour être utilisé dans les industries de l'électronique et des semi-conducteurs. C'est un équipement de gravure entièrement automatisé qui utilise des ions réactifs pour graver des matériaux organiques et inorganiques avec de nombreuses couches à la fois. Le cœur de ce système est une buse éducatrice propriétaire utilisant du gaz ionisé, une unité de dépôt et une machine d'imagerie à caméra CCD. La buse éducatrice contient une source d'émission de champ qui crée un champ de plasma. Au cœur de ce domaine se trouve le gaz réactif, qui est composé de gaz inertes et d'un gaz réactif tel que l'oxygène ou le fluor. La buse éducatrice accélère le champ plasma hors de la buse et crée un jet d'ions qui interagissent avec le substrat. Ces ions gravent dans le matériau, l'éliminant au niveau moléculaire. Le deuxième composant de l'outil est l'actif de dépôt, qui peut ajouter des couches de matériaux tels que les métaux, les plastiques et la céramique sur le dessus du substrat. Le modèle de dépôt utilise l'évaporation thermique et le dépôt chimique en phase vapeur pour ajouter des revêtements du matériau désiré. Ces procédés sont combinés avec le processus de gravure pour compléter le traitement à plusieurs niveaux des substrats. Enfin, l'équipement d'imagerie fournit une rétroaction visuelle en temps réel sur le processus de gravure et de dépôt. Cela se fait à travers la caméra CCD, qui fournit des images du processus sous de multiples angles, affichant les couches gravées. Cette surveillance en temps réel assure la précision du processus de gravure et de dépôt et permet un contrôle plus précis du système. Dans l'ensemble, OUI R 1 etcher/asher est un outil efficace et innovant pour les industries de l'électronique et des semi-conducteurs. Il peut être utilisé pour créer des processus de gravure et de dépôt à plusieurs niveaux avec précision et précision.
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