Occasion BRANCHY TECHNOLOGY Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) system #293814269 à vendre en France

BRANCHY TECHNOLOGY L'équipement de gravure ionique réactive par plasma à couplage inductif (ICP-RIE) est un évaporateur avancé conçu pour la gravure précise des matériaux dans la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Ce système utilise la technologie du plasma à couplage inductif (PIC) pour créer un plasma à haute densité qui est ensuite utilisé pour graver des matériaux avec une uniformité et une précision exceptionnelles. L'unité ICP-RIE est constituée d'une chambre où est placé le matériau à graver, ainsi que d'une bobine RF qui génère un champ électromagnétique haute fréquence pour créer le plasma couplé inductivement. Le plasma s'enflamme en appliquant une puissance radiofréquence à la bobine, ce qui ionise le gaz de procédé pour former des espèces réactives qui interagissent avec la surface du matériau pour le graver. Une des caractéristiques clés de BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE est sa capacité à contrôler l'énergie ionique et la directionnalité, conduisant à des profils de gravure précis et anisotropes. Ceci est essentiel dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs où les caractéristiques nanométriques doivent être définies avec précision à la surface du substrat. L'outil offre également un haut degré de flexibilité de processus, permettant aux utilisateurs d'adapter la chimie du plasma et les paramètres de processus pour atteindre des exigences de gravure spécifiques. Cette flexibilité permet de graver un large éventail de matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, les métaux et les semi-conducteurs composés III-V. BRANCHY TECHNOLOGY L'actif ICP-RIE est équipé de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour garantir des résultats cohérents et reproductibles. Les diagnostics de processus en temps réel, tels que la spectroscopie d'émission optique et la détection du point final, permettent aux utilisateurs de surveiller le processus de gravure et d'effectuer des ajustements en temps réel pour optimiser les performances. En outre, le modèle dispose d'une chambre de verrouillage de charge pour le transfert d'échantillons, qui minimise les temps d'arrêt de la chambre et améliore la productivité globale de l'équipement. La chambre de serrure aide également à maintenir un environnement de traitement propre en réduisant l'exposition aux contaminants. Le système ICP-RIE est conçu avec des interfaces logicielles conviviales qui permettent une programmation facile des recettes de processus et des ajustements de paramètres. Cela simplifie le fonctionnement et réduit la courbe d'apprentissage pour les nouveaux utilisateurs, ce qui en fait un outil idéal pour les environnements de recherche et de production. En résumé, l'unité ICP-RIE de BRANCHY TECHNOLOGY est un évaporateur de pointe qui offre des capacités de gravure de matériaux précises, uniformes et hautement contrôlables pour la fabrication de semi-conducteurs et les applications de recherche. Ses fonctionnalités avancées et son fonctionnement flexible en font un outil précieux pour un large éventail de tâches de traitement des matériaux, de la fabrication de dispositifs à la modification de surface et à la mise en forme.