Occasion KURT J. LESKER Nano 36 #293772535 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293772535
Style Vintage: 2019
Thin film deposition system
Process modules:
Low temperature evaporation sources
Thermal evaporation
Magnetron sputtering: RF and DC
Options:
Film thickness control
Various substrate fixtures
Substrate heating and cooling
Pressure control
Glovebox integration
Power supply: 208-240 VAC, Single phase, 50-60 Hz, 3 Wire
2019 vintage.
KURT J. LESKER Nano 36 est un évaporateur de pointe conçu pour les procédés avancés de dépôt de couches minces dans la recherche et le développement en nanotechnologie. Cet équipement performant offre un contrôle précis des dépôts de matériaux, permettant aux chercheurs de créer des films minces avec une uniformité, une pureté et une adhérence exceptionnelles aux substrats. Au cœur de l'évaporateur Nano 36 se trouve sa chambre à vide sophistiquée, qui fournit un environnement à vide élevé essentiel pour les procédés de dépôt de couches minces. La chambre est conçue pour accueillir une variété de substrats, y compris des plaquettes de silicium, des lames de verre et d'autres matériaux couramment utilisés dans les applications de nanotechnologie. Cette polyvalence permet aux chercheurs de déposer facilement des films minces sur différents types de surfaces. KURT J. LESKER Nano 36 dispose d'une source unique d'évaporation par faisceau d'électrons, capable d'évaporer un large éventail de matériaux, y compris les métaux, les oxydes et les semi-conducteurs. Cette source génère un faisceau d'électrons focalisés qui chauffe le matériau à sa température d'évaporation, créant un flux d'atomes vaporisés qui se déposent sur le substrat. L'utilisation de l'évaporation par faisceau d'électrons assure des vitesses de dépôt élevées et un excellent contrôle de l'épaisseur et de la composition des couches minces déposées. En plus de la source d'évaporation du faisceau d'électrons, Nano 36 est équipé d'une gamme de caractéristiques avancées pour améliorer le processus de dépôt. Il s'agit notamment d'un système précis de surveillance de l'épaisseur, qui permet aux chercheurs de surveiller le taux de dépôt en temps réel et d'obtenir l'épaisseur de film désirée avec une grande précision. L'unité comporte également un porte-substrat tournant, qui assure un dépôt uniforme sur toute la surface du substrat. Un des principaux avantages de KURT J. LESKER Nano 36 évaporateur est son interface conviviale, qui simplifie le fonctionnement et l'analyse des données. La machine est contrôlée par une interface logicielle intuitive qui permet aux chercheurs d'établir des paramètres de dépôt, de surveiller les variables de processus et d'analyser les données facilement. Ce flux de travail simplifié permet aux chercheurs de mener des expériences efficacement et d'obtenir des résultats fiables en temps opportun. Nano 36 est également conçu en tenant compte de l'évolutivité, ce qui permet aux chercheurs d'élargir les capacités de l'outil au fur et à mesure que leurs besoins de recherche évoluent. L'actif peut être facilement intégré à d'autres sources de dépôt, telles que la pulvérisation ou l'évaporation thermique, pour permettre une gamme plus large de techniques de dépôt en couches minces. Cette flexibilité fait de KURT J. LESKER Nano 36 une plateforme idéale pour mener divers projets de recherche en nanotechnologie et en science des matériaux. Dans l'ensemble, Nano 36 représente un modèle d'évaporateur de pointe qui offre des performances inégalées et une polyvalence pour le dépôt de couches minces dans la recherche en nanotechnologie. Avec ses fonctionnalités avancées, son contrôle de précision et son interface conviviale, KURT J. LESKER Nano 36 est un outil précieux pour les chercheurs qui cherchent à explorer les propriétés et les applications uniques des films minces à l'échelle nanométrique.
Il n'y a pas encore de critiques