Occasion KURT J. LESKER Sputtering E-Beam and thermal evaporation system #293817759 à vendre en France

KURT J. LESKER L'équipement de pulvérisation E-Beam et d'évaporation thermique est un évaporateur sophistiqué et polyvalent conçu pour les procédés de dépôt en couches minces dans les applications de recherche et industrielles. Ce système utilise une combinaison de techniques de pulvérisation, d'évaporation par faisceau d'électrons et d'évaporation thermique pour obtenir des couches minces précises et uniformes sur divers matériaux de substrat. Au cœur de l'unité se trouve le module de pulvérisation, qui utilise un plasma à haute énergie pour bombarder un matériau cible, provoquant l'éjection d'atomes ou de molécules puis leur dépôt sur la surface du substrat. Ce procédé est très contrôlé et permet le dépôt d'une large gamme de matériaux avec d'excellentes propriétés d'adhérence et de couverture. Le module de pulvérisation est équipé de matériaux cibles multiples, permettant le dépôt de structures multicouches complexes et de compositions d'alliages. En plus de la pulvérisation, la machine dispose d'une source d'évaporation du faisceau d'électrons, qui utilise un faisceau d'électrons de haute énergie pour fondre et vaporiser le matériau cible. Le matériau évaporé se condense alors sur le substrat, formant une couche mince. L'évaporation par faisceau d'électrons est connue pour ses taux de dépôt élevés et son homogénéité, ce qui la rend idéale pour le dépôt de couches minces avec un contrôle précis de l'épaisseur et une excellente qualité de film. En complément des techniques d'évaporation par pulvérisation et faisceau d'électrons, le module d'évaporation thermique fonctionne en chauffant résistivement le matériau cible dans un environnement à vide élevé jusqu'à ce qu'il atteigne sa température de vaporisation. Le matériau évaporé est alors dirigé vers le substrat, où il se condense et forme une couche mince de film. L'évaporation thermique convient au dépôt d'un large éventail de matériaux, y compris des métaux, des oxydes et des composés organiques, et est particulièrement bien adaptée à la croissance de couches minces à des températures plus basses. L'outil d'évaporateur KURT J. LESKER dispose de capacités avancées de contrôle des dépôts, telles que la surveillance en temps réel des taux de dépôt, l'uniformité de l'épaisseur et la composition des films. L'actif est équipé d'une interface logicielle complète qui permet aux utilisateurs de programmer les recettes de dépôt, d'ajuster les paramètres du processus et de suivre l'avancement des dépôts en temps réel. Ce niveau de contrôle permet un réglage précis des propriétés du film, telles que l'épaisseur, la composition et la microstructure, pour répondre à des exigences d'application spécifiques. En outre, le modèle est conçu avec un haut degré d'automatisation et un fonctionnement convivial, permettant des processus de dépôt de couches minces efficaces et reproductibles. L'équipement est équipé de dispositifs de sécurité, de systèmes de surveillance sous vide et de techniques de dépôt avancées pour garantir des résultats fiables et reproductibles. De plus, le système peut être intégré à d'autres modules, tels que le chauffage des substrats, la surveillance in situ et les capacités multi-cibles, afin d'accroître ses capacités et sa polyvalence. Globalement, Sputtering E-Beam et l'unité d'évaporation thermique est un évaporateur de pointe qui offre une gamme complète de techniques de dépôt de couches minces pour un large éventail de matériaux et d'applications. Avec ses fonctions de contrôle avancées, ses capacités d'automatisation et sa polyvalence, cette machine est un choix idéal pour les chercheurs et les fabricants à la recherche de couches minces précises et fiables avec des propriétés sur mesure.