Occasion ADTEC Anex-A2161 #9383880 à vendre en France

ADTEC Anex-A2161 est un puissant équipement d'exposition de pointe conçu pour la recherche et le développement photolithographique. Il est bien adapté pour aligner, projeter et exposer des substrats dans différents types de domaines d'application. Anex-A2161 présente plusieurs caractéristiques uniques qui le rendent bien adapté aux exigences de la recherche et du développement photolithographique. Il comprend un système de projection rubis-laser haute résolution ainsi qu'une caméra large gamme avec un capteur CCD de haute qualité. Ceci permet un alignement précis par rapport aux motifs de conception sur le substrat. Il utilise également un étage de masque de verre de haute précision qui permet un alignement visuel direct avec la conception du masque. ADTEC Anex-A2161 dispose d'une unité de traitement d'image avancée pour mesurer, traiter et projeter une conception de photomasque sur un substrat. Cela peut être fait avec un grossissement et une rotation préétablis précis, permettant des réglages précis de points individuels dans la conception. En outre, la machine peut être utilisée pour diverses applications telles que l'écriture laser directe et l'imagerie optique assistée par projection. L'outil d'exposition contient également un actif de positionnement de cible tridimensionnel, permettant un ciblage et un déplacement précis du substrat ou du masque. Ceci offre une grande précision lors de la projection de la conception du masque sur le substrat. Le modèle d'exposition comprend également un équipement de mesure de la lumière, qui fournit des résultats d'exposition précis lors de la détermination de la résistance à l'exposition. Anex-A2161 est un système d'exposition photolithographique puissant, convivial et précis. Sa combinaison de caractéristiques en fait un choix idéal pour les applications de recherche et développement, offrant précision et précision avec une flexibilité maximale. Avec son unité de traitement d'image avancée et précise, il fournit un moyen efficace et efficace d'exposer les substrats avec une variété de conceptions de photomasques, tandis que sa machine de positionnement de cible tridimensionnelle fournit un ciblage et un mouvement précis. L'outil de mesure de la lumière fournit également des résultats précis et fiables lors de la détermination de la résistance à l'exposition.