Occasion AXCELIS / FUSION 200 PCU Polo #9196916 à vendre en France

AXCELIS/FUSION 200 PCU Polo est un équipement d'exposition avancé, conçu pour fournir des expositions précises et répétables pour une production exigeante de photomasques. Cette plate-forme est idéale pour les applications d'exposition 5X et 6X. Le Polo est un système de piste automatisé avec une métrologie haute résolution et une manipulation de substrat, ce qui donne des performances de rendement supérieures. L'unité est conçue avec une technologie d'air sec brevetée de pointe, à débit massique contrôlé (MFC) sans humidité, qui fournit des doses précises et répétables pour les applications critiques d'exposition répétée. La technologie MFC est capable de reproduire des doses d'exposition à 0,8 % près. La machine dispose d'une manipulation de substrat avancée, y compris le chargement automatique, le placement et les contrôles d'orientation. L'outil comprend également l'alignement automatique du dos et la surveillance de l'alignement des métaux. La plate-forme peut traiter des substrats jusqu'à 200 mm de taille, et peut manipuler des substrats jusqu'à 1,5 mm d'épaisseur. L'actif opto-mécanique de pointe offre d'excellentes performances optiques. Le modèle optique utilise une lentille d'exposition à haute performance corrigée par diffraction, combinée à un équipement d'alignement automatisé. Le système d'exposition avancé est conçu pour offrir la meilleure uniformité d'exposition en classe jusqu'à 4 µm, combinée à une faible distorsion linéaire de 0,1 µm/mm. FUSION 200PCU POLO est conçu avec une interface graphique conviviale (interface graphique), permettant une configuration rapide et une répétabilité précise des paramètres d'exposition. L'unité dispose de contrôles conviviaux de l'opérateur avec des capacités étendues de processus et de collecte de données de substrat. Ces données sont utilisées pour garantir des expositions précises et répétables. AXCELIS 200 PCU/POLO est une machine d'exposition avancée qui fournit des expositions précises et répétables pour une production exigeante de photomasques. Avec ses performances optiques éprouvées, son outil de contrôle MFC et sa manipulation automatisée des substrats, l'actif peut fournir des rendements supérieurs et des doses répétables précises. L'interface graphique conviviale du modèle garantit une configuration facile et un contrôle précis des processus.