Occasion AXCELIS / FUSION 200 PCU #9235770 à vendre en France

AXCELIS / FUSION 200 PCU
ID: 9235770
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2001
Photo stabilizer, 8" 2001 vintage.
AXCELIS/FUSION 200 PCU est un équipement d'exposition spécialement conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la microélectronique. Il assure un contrôle précis de la production de moyen à haut débit et nécessite un entretien minimal. Le système est adapté pour fabriquer et tester une variété d'appareils, y compris optoélectronique, MEMS, photonique, et LED. FUSION 200 PCU abrite une source laser ultrapuissante de 200 watts, un étage de plaquettes de 13 positions et trois optiques de focalisation indépendantes (CO2, NIR et UV). Il offre deux options de chargement (robot actif et chargement manuel) et dispose d'une unité thermique moderne conçue pour contrer les fluctuations de température afin de maintenir des conditions de processus optimales. AXCELIS 200PCU est équipé d'un axe Z motorisé ultra-précis pour obtenir un alignement de précision et une répétabilité personnalisée. Les fonctions de contrôle du mouvement en boucle fermée et l'instrumentation intégrée contribuent à un contrôle robuste et précis de la dose d'exposition au laser. La machine permet aux utilisateurs d'adapter facilement leurs paramètres de processus d'exposition, y compris la forme du faisceau laser et l'obturateur, la vitesse de balayage, le mouvement XY, et plus encore. Il dispose également de dispositifs de sécurité intégrés pour protéger contre les erreurs potentielles. 200PCU est très polyvalent, offrant une exposition uniforme et rapide aux photorésistes, autres matériaux et substrats de différentes tailles. Il est compatible avec les solutions logicielles de tiers et de FUSION et peut être conçu pour s'adapter à différents types de configurations d'automatisation. AXCELIS 200 PCU est un outil d'exposition avancé et efficace pour les applications industrielles. Sa technologie de pointe et ses options hautement personnalisables garantissent des performances supérieures et des temps de production rapides. C'est un choix idéal pour les applications de photolithographie et d'imagerie à haut volume et complexes.
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