Occasion AXCELIS / FUSION M 150PC #9232206 à vendre en France
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AXCELIS/FUSION M 150PC est un équipement d'exposition avancé conçu pour des applications de lithographie avancées. Le système est équipé d'une unité d'étage 5 axes unique qui permet un alignement précis et précis pour les performances de haut niveau. La puissance de la machine offre une large gamme d'options pour les utilisateurs. L'outil utilise trois configurations de sources différentes : fluorure d'argon pur, source de bande passante optique avec 248nm de longueur d'onde et source i-line avec 365nm de longueur d'onde. Le laser au fluorure d'argon offre un débit élevé, une fidélité à l'image et une uniformité sur l'ensemble de la zone photo-motif, tandis que la source i-line est le choix idéal pour les films photosensibles en polyimide. L'actif dispose également de la technologie de détection d'imagerie Collimated Overlay avancée, qui fournit un alignement direct des bords avec une précision et une précision accrues. De plus, la technologie Collimated Overlay Imaging Detection permet l'analyse, la surveillance et la métrologie en temps réel des réticules et des plaquettes en un seul cycle. De plus, le module avancé de compensation de puissance améliore le débit, la concentration et les dimensions critiques de la résistance. Le modèle intègre également une plate-forme de calcul sophistiquée, qui permet de contrôler directement des paramètres tels que Mask ID, Expositions, Dose et Align, entre autres. La plate-forme informatique permet également aux utilisateurs de personnaliser leurs propres paramètres de recette et d'analyser les données, éliminant le besoin de programmation supplémentaire. La source de FUSION M150PC est suffisamment intelligente pour détecter automatiquement le chargement d'un masque, d'une plaquette ou d'un réticule dans l'équipement. En outre, le système est équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité de pointe, tels que l'arrêt d'urgence, ainsi que des mécanismes de sécurité électrique et de combustion. AXCELIS M 150 PC est une unité d'exposition puissante et fiable, capable de fournir des performances de pointe dans une variété d'applications de lithographie et de nanofabrication. Ses fonctionnalités conviviales et avancées permettent aux utilisateurs de créer des images et des motifs de la plus haute qualité avec un minimum d'efforts. La machine est bien adaptée aux applications industrielles et de recherche, telles que la nanoélectronique, les semi-conducteurs, la micro-optique et la photonique.
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