Occasion AXCELIS / FUSION M 150PS #293616814 à vendre en France

AXCELIS/FUSION M 150PS est un équipement d'exposition haut de gamme conçu pour des applications avancées de lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise l'optique de projection pour briller un motif précis sur une surface de photorésistance, permettant la création de motifs de circuits complexes sur des circuits intégrés (IC). FUSION M 150PS utilise une lampe mercure/xénon de haute puissance qui fournit une source lumineuse forte avec une gamme de longueurs d'onde de 436-451nm. Son optique de projection est constituée d'un élément optique, d'une lentille de condenseur, d'un porte-réticule et d'une lentille de projection qui fournissent ensemble un grossissement de 150x. Ce chemin optique est synchronisé à un système de pas et de mouvement de répétition, qui déplace le motif réticulaire à de grandes zones de dessin rapide et précis d'un IC. L'unité dispose également d'une machine à vide qui maintient la pression à l'intérieur de la chambre d'exposition et contribue à assurer le plus haut niveau de précision pendant le processus d'exposition. En outre, AXCELIS M 150PS comprend plusieurs dispositifs de sécurité pour protéger l'opérateur contre les rayonnements nocifs et d'autres dangers potentiels. Les caractéristiques avancées de M 150PS le rendent idéal pour les applications de lithographie à haut volume telles que l'emballage des puces et les composants microimprimés. Il permet également un débit exceptionnel, avec une qualité d'image constante sur les grands IC. Le puissant scanner à lame assure une exposition rapide et précise même des modèles les plus complexes, offrant une excellente performance et fiabilité dans les environnements de production sensibles aux coûts. Dans l'ensemble, AXCELIS/FUSION M 150PS est un excellent choix pour les processus de wafer multi-projets typiques, y compris ceux pour les dispositifs médicaux et les télécoms. Sa flexibilité et sa conception robuste le rendent adapté à une grande variété d'applications de lithographie.