Occasion AXCELIS / FUSION M 200 PC #9329137 à vendre en France

AXCELIS/FUSION M 200 PC est un équipement d'exposition avancé développé pour des applications de lithographie laser. Le système utilise un laser vert excimère de 532 nm pour créer des motifs photorésistants sur des plaquettes semi-conductrices. Il dispose également de deux optiques de focalisation de précision pour fournir une imagerie haute résolution avec une profondeur de focalisation améliorée et un débit plus élevé. L'unité a une conception rigide de la plaque de base pour éliminer les vibrations et assurer un alignement et une exposition précis de la photolithographie. Il intègre également une machine d'imagerie thermique et des outils de métrologie avancés pour surveiller et ajuster les paramètres d'exposition pendant les opérations. La caractéristique essentielle de l'outil est ses capacités d'exposition automatisées. La plateforme permet des paramètres programmables tels que les temps d'exposition, la profondeur de focalisation, la taille du champ, les niveaux d'énergie et la longueur d'onde. Le Pouvoir la technologie de surveillance de pouvoir de SenseTM mesure dynamiquement la distribution de pouvoir du laser et règle automatiquement ses propriétés pour la performance optimale. De plus, la fonctionnalité de la Technologie StitchTM permet à l'utilisateur de combiner plusieurs impulsions de durée et d'énergie réglables en une seule impulsion. Ceci assure une répartition uniforme de l'énergie sur les motifs de la résine photosensible. FUSION M200PC est équipé de dispositifs de sécurité avancés pour protéger l'opérateur et l'actif laser contre les dommages. En plus des capteurs d'interception du modèle, l'équipement dispose d'un système de rideau de sécurité intégré et d'une unité d'échappement qui élimine les fumées créées pendant le processus d'exposition. La machine dispose également d'un outil de refroidissement de l'eau et d'alimentation électrique pour assurer un fonctionnement stable et durable. AXCELIS M200 PC peut être utilisé conjointement avec une variété de conceptions de photomasques et peut être utilisé pour développer de nombreux types différents de photorésist et d'autres processus de photolithographie. Ses caractéristiques telles que l'optique de focalisation de précision, les paramètres programmables, et la technologie pulsestitch peuvent être combinées avec photomasque, photorésist, et d'autres processus pour personnaliser les recettes individuelles, ce qui en fait un outil idéal pour la recherche et la production de lithographie semi-conducteur.