Occasion AXCELIS Microlite #9293673 à vendre en France

AXCELIS Microlite est un équipement d'exposition avancé conçu pour la fixation de plaquettes de sous-microns. Le système est conçu pour les processus de photolithographie les plus avancés, offrant une ouverture numérique supérieure et un grossissement pour la haute résolution dans les dispositifs de sub-200nm. Avec ses opto-mécaniques de précision, ses optiques à contraste élevé et ses algorithmes d'imagerie en boucle fermée, Microlite offre une précision de correction d'aberration supérieure à celle des systèmes de lithographie classiques. Des ensembles de positionnement avancés ainsi qu'une lentille de projection hors axe permettent un déplacement et un contrôle précis des composants optiques de cette unité. Ainsi, les plus petites fixations et réglages sont effectués avec précision, ce qui permet un alignement supérieur des motifs. Sa haute optique et sa technologie avancée de microscope en font le choix idéal pour imprimer des micro-motifs sur des plaquettes semi-conductrices. La machine est adaptée à un large éventail d'applications telles que la génération de photomasques, la lithographie nano-empreinte et d'autres procédés avancés de lithographie. Sa chambre compacte et ses performances sous vide supérieures lui permettent de traiter des chimiographies gazeuses agressives dans le processus de lithographie. Il est également capable d'esposer des caractéristiques de contraste élevé, permettant une génération précise d'images douces dans le prototypage à l'échelle moléculaire. Une autre caractéristique clé de l'outil AXCELIS Microlite est son optique de projection haute résolution. L'actif est équipé d'une optique de projection de 100 µm de résolution qui est capable d'offrir des performances d'imagerie uniques pour les plus petites tailles de fonctionnalités. Cela permet d'exposer un large éventail de caractéristiques, y compris des lignes et des motifs qui ne sont que de quelques nanomètres de taille. Le modèle offre une homogénéité de motifs supérieure sur une large gamme de substrats de plaquettes, y compris le quartz, le métal et les matériaux diélectriques. Son homogénéité est encore renforcée par son contrôle étanche de la température, du revêtement et des vibrations permettant des processus de fabrication de dispositifs par lots et très précis. Microlite est également livré avec un équipement intégré pour le contrôle de qualité et la validation OPC, qui lui permet de détecter même les variations les plus subtiles dans le processus de lithographie. En conclusion, AXCELIS Microlite est un système d'exposition avancé et polyvalent qui offre la haute résolution requise pour la lithographie nano-empreinte et d'autres procédés avancés de photolithographie. Grâce à ses algorithmes intégrés de correction d'image et à son optique de précision, il permet une homogénéité de motifs supérieure sur une large gamme de substrats de plaquettes. En conséquence, c'est un excellent choix pour créer des dispositifs semi-conducteurs sub-microns et d'autres nanostructures complexes.