Occasion COLIGHT 1230 #293589867 à vendre en France

COLIGHT 1230 est un équipement d'exposition utilisé pour diverses applications de lithographie et de traitement dans la fabrication de plaquettes et de composants optiques. Le système est capable de fournir divers types d'exposition tels que : ultraviolet (UV), Visible, Rayons X, Ultraviolet profond (DUV) et Vide élevé (HV). La conception de l'unité permet de réaliser une large gamme d'expositions, permettant aux utilisateurs de produire rapidement et avec précision une grande variété de composants, y compris des semi-conducteurs, des dispositifs optoélectroniques, des MEMS et des lentilles optiques. La machine intègre un étage 1230mm x 1220mm et peut supporter une variété de substrats jusqu'à 300mm. La mécanique de mouvement des étages est composée à la fois de paliers à air et de moteurs LSM assurant un contrôle de mouvement cohérent et répétable. La grande stabilité de l'étage assure une exposition uniforme à travers la plaquette. L'outil utilise des contrôleurs puissants et un outil de rétroaction en boucle fermée pour un positionnement et une exposition précis du faisceau. 1230 a une architecture modulaire avec des modules séparés pour l'optique, l'éclairage et le contrôle. Cette conception modulaire permet l'installation de diverses optiques et sources d'éclairage pour répondre aux exigences d'application de l'utilisateur. Le modèle peut être configuré avec jusqu'à quatre têtes d'exposition et un gestionnaire robotique en option. Les têtes d'exposition contiennent une variété d'optiques et de sources, y compris l'éclairage Imbert-Friedrich, la sélection spectrale, le filtrage de Fourier, le berceau et la sélection d'étapes, et les systèmes optiques On-Axis, ce qui rend l'équipement adapté à une large gamme d'applications de lithographie et de traitement. COLIGHT 1230 est conçu avec une variété de caractéristiques de sécurité pour assurer la sécurité des opérateurs. Il dispose d'embouts de sécurité, de boutons d'arrêt d'urgence et de barrières avec portes d'accès verrouillées. Il présente également une variété de caractéristiques de métrologie telles que la cartographie des plaquettes, le comptage des plaquettes et l'alignement des sous-microns, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision son processus d'exposition. Le système est convivial, avec une interface utilisateur graphique intuitive pour une configuration et un contrôle faciles des paramètres. 1230 est une unité d'exposition hautement capable adaptée aux constructeurs de composants optiques avancés, y compris les semi-conducteurs, les dispositifs MEMS et les lentilles optiques. Il offre une exposition rapide et précise pour fournir des résultats uniformes et reproductibles, permettant aux utilisateurs de produire des composants de haute qualité rapidement et efficacement.