Occasion ELECTRON VISION / AMAT / APPLIED MATERIALS 3C-PM #28671 à vendre en France
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ID: 28671
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
Electron beam cure tool, 12"
Loaders: Asyst dual SMIF-300FL
Prealigner: PRI/Equipe transfer robot and PR300B-CE
Turbo pumped main chamber
High voltage power supply: Bertan 105 1Kw
208V, 3 Phase
2002 vintage.
ELECTRON VISION/AMAT/APPLIED MATERIALS 3C-PM est un équipement d'exposition conçu pour les applications avancées de lithographie optique. Ce système permet une haute résolution photographique et un mouvement de scène X-Y réduit. AMAT 3C-PM consiste en une étape d'alignement critique conçue pour assurer un alignement précis pendant l'exposition et une unité d'imagerie optique de haute précision. ELECTRON VISION 3C-PM supporte le contrôle de la fonction de très haute résolution avec alignement de sous-résolution des motifs, ainsi que l'alignement du masque pour des performances d'ultra-haute qualité. La machine comprend un microscope d'imagerie avancé donnant une projection entièrement pré-compensée et des vues de terrain de l'étage PGA (pin grid array). Il existe également une capacité de reconnaissance et de réglage des écarts. 3C-PM offre des applications à haut débit avec une taille de filière allant jusqu'à 8 pouces pour un rendement maximal. Il contrôle tous les processus de lithographie, y compris le revêtement, l'inspection des motifs, l'exposition et l'alignement des masques. Chaque outil APPLIED MATERIALS 3C-PM dispose d'un outil intégré d'inspection des défauts. ELECTRON VISION/AMAT/APPLIED MATERIALS 3C-PM dispose d'un moteur embarqué pour garantir une haute précision de position. Il dispose d'un modèle de serrage sous vide/pression très précis pour assurer un ajustement serré entre les côtés de la filière et maximiser le rendement du processus. AMAT 3C-PM est conçu pour être un équipement très flexible qui fournit une imagerie à double face et un large éventail de paramètres d'exposition pour répondre aux diverses exigences des produits. Il permet de changer rapidement les photomasques tout en maintenant des conditions d'imagerie cohérentes. Le système est capable de contrôler indépendamment l'intensité de chaque réseau LED ou laser et ainsi assurer une exposition uniforme sur toute la surface du substrat ELECTRON VISION 3C-PM est spécialement conçu pour la lithographie multicouche avec une unité de correction optique entièrement programmable qui fournit une correction efficace et précise pour le désalignement du masque. Il offre également un contrôle avancé de l'énergie laser et permet un contrôle dynamique de l'exposition laser. De plus, la machine est équipée d'un outil d'alignement complet pour le transfert manuel et automatisé des motifs vers les substrats. 3C-PM est un actif d'exposition rentable, fiable et adaptable fournissant des solutions de lithographie optique avancées. Il est conçu pour simplifier le processus de haute résolution et des modèles d'appareils de haute qualité avec des coûts de matériaux faibles et une excellente fiabilité. Ce modèle donne aux fabricants un contrôle maximal sur le processus de lithographie et leur permet de produire des dispositifs de qualité supérieure en des temps plus courts.
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