Occasion EXFO / EFOS 100SS #9061200 à vendre en France

EXFO/EFOS 100SS est un équipement d'exposition de pointe conçu pour offrir une précision et une répétabilité supérieures pour le développement de processus lithographiques avancés. Ce système offre une exposition optimisée des masques d'exposition fente à l'aide d'une étape et répétez l'unité de placement de masque x-y avec une large gamme dynamique. EXFO 100SS utilise une machine d'exposition flottante haut de gamme avec une précision de position et une stabilité améliorées pendant l'exposition. Cet outil est idéal pour les applications d'écriture directe haute résolution telles que la miniaturisation en raison de sa vitesse exceptionnelle et sa répétabilité. L'actif d'exposition EFOS 100SS utilise une étape programmable, ce qui facilite la flexibilité pour l'exposition automatisée de différents masques d'exposition à fentes. La capacité d'exposition à la fente du modèle comprend un équipement d'alignement qui collimate les composantes axiales divergentes des faisceaux pour former des images linéaires en fente sur la plaquette. Cela garantit que l'image fente est positionnée avec précision sur la plaquette avec un minimum de changement de taille ou de forme. Pour garantir des résultats supérieurs, le système dispose d'une unité d'éclairage double alignée optiquement avec des sources lumineuses provenant de sources halogènes et laser avec de larges largeurs de bande. Cela permet toute une gamme d'options d'éclairage en longueur d'onde qui pourraient être nécessaires pour l'exposition. L'éclairage à double source permet également un contrôle plus fin de la dose d'exposition et un suivi précis de la focalisation tout au long du processus d'exposition. 100SS offre également l'avantage de vitesses de balayage rapides sur une large gamme d'expositions en raison de ses capacités dynamiques de balayage en fente. La fonction de balayage en fente permet à la machine de faire plusieurs expositions à différentes zones d'une plaquette en succession rapide et dans une séquence programmable. Cela assure un débit élevé dans un processus qui implique des expositions à fentes multiples. En outre, l'outil est conçu avec un logement sécurisé et un système de sas pour un environnement de salle blanche. Le sas assure une exposition sans contamination des appareils testés, et le modèle est équipé d'un filtre à poussière de classe 1-1000. En conclusion, l'équipement d'exposition EXFO/EFOS 100SS établit la norme de l'industrie pour le développement avancé des processus de lithographie en raison de sa précision et de sa répétabilité supérieures. Sa capacité d'exposition à fente avancée et son système d'éclairage double aligné optiquement offrent la souplesse nécessaire pour exposer avec précision toute longueur d'onde. Les vitesses de balayage rapides et le filtre à poussière de classe 1-1000 permettent un débit accru et un environnement sans contamination.