Occasion EXFO / EFOS IQ-203 #9152167 à vendre en France

EXFO/EFOS IQ-203 est un équipement d'exposition avancé créé par les experts en ingénierie d'EXFO Instruments. Ce système est conçu pour des mesures de la ligne/de l'espace sous-25 nanomètres de dimension critique (CD). EXFO IQ-203 utilise un prober automatisé et une plate-forme de positionnement à 3 axes pour garantir des performances d'exposition précises et reproductibles. L'unité d'exposition dispose également d'une plate-forme de revêtement photorésist automatisée intégrée pour les matériaux à haute constante diélectrique. EFOS IQ-203 utilise des optiques de pointe pour fournir une imagerie cohérente et à haute résolution. Le matériel de la machine d'exposition est conçu pour résister aux mouvements de haute précision nécessaires à l'imagerie précise. L'outil utilise un positionneur asservi à trois axes pour positionner de façon précise et répétable les composants optiques. L'étape X-Y a une résolution de 0,1 µm et une précision de position de 1 µm. Le troisième axe (Z) fournit une profondeur de focalisation de 200 µm avec un mouvement de 0,01 µm de précision. De plus, l'actif d'exposition comprend une étape de rotation qui assure un contrôle angulaire complet des substrats par rapport à l'optique d'imagerie. De plus, IQ-203 est livré avec un modèle d'imagerie haute performance. Cet équipement utilise un éclairage monochromatique ou polychromatique avec un champ de vision uniforme. Il dispose également d'un appareil photo numérique haute résolution qui est capable de produire des images avec une résolution allant jusqu'à 3 microns. De plus, le système d'exposition possède une fonction d'auto-focalisation intégrée qui ajuste l'imagerie en fonction du mouvement de l'échantillon. EXFO/EFOS IQ-203 est également intégré à une unité de métrologie de précision qui mesure les dimensions et les caractéristiques critiques d'un échantillon. Cette machine est équipée de lasers embarqués qui permettent d'effectuer des mesures rapides sans contact. De plus, l'outil d'exposition comprend un logiciel de contrôle automatisé qui permet aux utilisateurs de configurer et de surveiller facilement le processus d'exposition. Dans l'ensemble, EXFO IQ-203 est un actif d'exposition avancé conçu pour des mesures d'imagerie et de métrologie de haute précision. Son matériel et son logiciel intégrés facilitent la mesure rapide et précise des caractéristiques et dimensions critiques sur les échantillons. Ce modèle est un choix idéal pour les applications avancées de microélectronique et de semi-conducteur.