Occasion HAKUTO HAP-1100ST #293793159 à vendre en France

ID: 293793159
Style Vintage: 2010
Automatic exposure system CCD Camera IR lighting Vacuum sealing UV Lamp Loading and unloading conveyor Temperature controller HEPA Unit LCD Touch panel Power supply: 220 V, 3 Phase, 50/60 Hz 2010 vintage.
HAKUTO HAP-1100ST est un équipement d'exposition avancé conçu pour des procédés de lithographie de haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs. Cet outil de pointe intègre une gamme de technologies innovantes pour assurer des performances précises et une productivité élevée dans la fabrication de circuits intégrés et autres dispositifs semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de HAP-1100ST est son système optique de projection de pointe, qui joue un rôle critique dans la définition de la résolution et de la précision du processus de lithographie. L'unité utilise un arrangement optique sophistiqué avec plusieurs éléments pour focaliser la lumière de la source de lumière sur le substrat photorésistant avec une extrême précision. Cela permet à la machine d'obtenir des résolutions jusqu'au niveau du sous-micron, en veillant à ce que les motifs complexes requis pour les dispositifs semi-conducteurs modernes puissent être fidèlement reproduits avec une grande fidélité. En plus de son optique avancée, HAKUTO HAP-1100ST est équipé d'une source lumineuse haute performance qui fournit un éclairage intense et uniforme sur toute la zone d'exposition. Cela garantit que la résine photosensible est régulièrement exposée, ce qui conduit à une fixation cohérente avec des défauts minimes. L'intensité lumineuse et la durée d'exposition peuvent être finement contrôlées pour optimiser les paramètres de processus pour les différentes applications de lithographie, permettant aux utilisateurs d'atteindre les caractéristiques de balisage souhaitées sans compromettre le débit ou la qualité. Pour améliorer encore la précision du processus de lithographie, HAP-1100ST dispose d'une étape mécanique très stable qui supporte le substrat pendant l'exposition. L'étage est équipé de systèmes avancés de commande de mouvement qui permettent la précision de positionnement du sous-nanomètre, assurant que chaque élément de motif est précisément aligné et enregistré sur le substrat. La scène peut se déplacer rapidement et en douceur entre les points d'exposition, ce qui permet d'effectuer des essais rapides sans sacrifier la précision de position. HAKUTO HAP-1100ST intègre également des systèmes avancés d'alignement et de contrôle de superposition qui permettent à l'outil d'enregistrer avec précision plusieurs couches de fixation sur le même substrat. Ceci est essentiel pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes à structures multicouches, car il assure que chaque couche est alignée avec précision avec les couches sous-jacentes pour atteindre la fonctionnalité de dispositif souhaitée. L'actif utilise des algorithmes sophistiqués de traitement d'image et des mécanismes de rétroaction pour détecter et corriger tout désalignement en temps réel, en veillant à ce que le processus de fixation se déroule en douceur et avec précision. En termes de capacités logicielles, HAP-1100ST est équipé d'une interface conviviale qui permet aux opérateurs de programmer et de contrôler facilement le processus d'exposition. Le modèle peut s'adapter à un large éventail de stratégies d'exposition, allant des expositions de base à une seule prise à des expositions complexes multi-passes avec des doses d'exposition variables. Les utilisateurs peuvent définir des modèles d'exposition personnalisés et des mises en page à l'aide d'outils logiciels dédiés, ce qui permet d'offrir des solutions de modélisation flexibles et personnalisables pour diverses applications de lithographie. Dans l'ensemble, HAKUTO HAP-1100ST représente un équipement d'exposition de pointe qui combine une optique de pointe, un contrôle précis du mouvement et des capacités logicielles sophistiquées pour offrir des performances supérieures en lithographie semi-conductrice. Avec sa haute résolution, sa précision et sa productivité, le système est idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe qui nécessitent des contraintes complexes et un contrôle serré des processus.
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