Occasion ORC EDI-8010 #9376102 à vendre en France

ORC EDI-8010 est un équipement d'exposition conçu principalement pour des expériences photochimiques. C'est une unité d'irradiation UV-VIS avec un faible niveau d'énergie (inférieur à 90J/m2min) et une large gamme de longueurs d'onde (200-800nm). Le système permet d'exposer un substrat à un rayonnement électromagnétique spectral soigneusement contrôlé à des fins de recherche, de développement ou de contrôle de procédé. EDI-8010 se compose d'une série de lampes, alimentation électrique, minuterie électronique, et une chambre de processus. La lampe est équipée d'une enveloppe en quartz contenant un tube d'ammoniac mélangé à un gaz non radiatif, soit de l'azote ou de l'argon. Les lampes produisent une large gamme d'émissions de 200 à 800nm, mais à une puissance relativement faible. L'alimentation fournit une puissance réglable jusqu'à différentes longueurs d'onde. De plus, la minuterie a une résolution de 100 microsecondes, permettant des temps d'exposition précis et la répétabilité de l'événement d'exposition. La chambre de processus est la principale caractéristique de l'ORC EDI-8010 ; il s'agit d'un environnement clos dans lequel le substrat est exposé à différents niveaux de rayonnement électromagnétique. EDI-8010 est conçu avec une unité de refroidissement active pour assurer une température stable pour une exposition uniforme et une gestion thermique. L'ensemble de la machine est conçu pour minimiser la lumière parasite en utilisant l'aluminium noir anodisé sur ses surfaces extérieures. Cela permet de limiter la quantité de lumière transmise dans la chambre de processus. L'unité est également livrée avec un volet de sécurité qui est conçu pour fermer lorsque l'outil n'est pas en service, réduisant la possibilité d'exposition due à l'activation accidentelle de l'actif. ORC EDI-8010 est conçu pour répondre à des normes rigoureuses de sécurité, d'efficacité et de précision. Son but principal est de délivrer une dose uniforme de rayonnement électromagnétique de basse énergie de manière contrôlée et de surveiller les effets de l'exposition sur un substrat. Ce modèle est adapté à une gamme d'expériences photochimiques, y compris, mais sans s'y limiter, la photolithographie, la gravure de couches minces, le développement de lentilles de contact et l'exposition de photorésistants. En outre, il peut également être utilisé dans des applications de recherche médicale et de développement, en particulier dans le domaine de la thérapie photodynamique.