Occasion ORC EXP-2050 #9361769 à vendre en France

ORC EXP-2050 est un équipement d'exposition conçu pour des applications de photolithographie haute performance. Il a une conception modulaire et peut être utilisé pour une variété d'expositions, y compris celles utilisant une variété de sources UV, de faisceau électronique et de rayons X. Le système offre une large gamme de capacités d'optimisation, y compris l'alignement optique, le positionnement des détecteurs et le contrôle de la température de la chambre. L'unité utilise un capteur d'imagerie de haute qualité, ce qui lui confère une gamme dynamique élevée et d'excellentes propriétés d'imagerie. Les capteurs d'imagerie ont également la capacité de détecter des caractéristiques plus petites, ce qui peut se traduire par une profondeur de mise au point améliorée. En outre, il comprend une conception de chambre brevetée, qui aide à contrôler la température de tous les composants, tout en assurant des performances uniformes et une grande fiabilité. EXP-2050 utilise une machine de commande intelligente brevetée qui l'aide à détecter et à ajuster même les plus petits changements dans les paramètres d'exposition et le temps d'exposition. En outre, il comprend également un ensemble d'outils de contrôle et d'analyse pour permettre une compréhension détaillée du processus de lithographie. L'une des caractéristiques les plus uniques d'ORC EXP-2050 est sa conception de masque variable. En utilisant un masque déformable en 3 dimensions, cet outil vous donne la flexibilité nécessaire pour ajuster les fonctionnalités en fonction de différents paramètres de processus. Il en résulte une meilleure performance du masque et des résultats de lithographie améliorés. Le processus d'exposition est automatisé avec le logiciel intégré. En utilisant une interface graphique, l'utilisateur peut configurer, surveiller et contrôler le processus d'exposition à partir d'une interface unique. En outre, il offre une conception adaptée à la salle blanche, ce qui lui permet d'être utilisé dans une gamme de différents espaces confinés, même lorsque vous travaillez avec des produits chimiques dangereux. EXP-2050 est facilement intégré aux équipements de lithographie existants, y compris les steppers et les aligneurs. Cela en fait un excellent ajout à toute configuration existante et permet d'obtenir une résolution plus élevée et plus de précision de leur actif. Les exigences en matière d'essais sont également satisfaites avec le modèle intégré, car les fonctions de métrologie avancées permettent d'obtenir des données fiables sur toutes les expositions. Globalement, ORC EXP-2050 est un équipement d'exposition robuste et flexible conçu pour fournir des performances élevées afin d'obtenir des résultats lithographiques précis et reproductibles. Avec sa large gamme de contrôles d'optimisation, de conception de masques variables et de logiciels automatisés, EXP-2050 est une solution idéale pour tout besoin de photolithographie haut de gamme.