Occasion ORC HMW 201B 5K #293636467 à vendre en France

ORC HMW 201B 5K est un équipement d'exposition conçu pour les applications d'écriture de masque lithographique haute résolution. Le système dispose de 5 kilowatts de puissance laser et est capable de produire des lignes et des espaces de 5 microns en largeur et en hauteur. Il offre une exposition en plein champ sur un masque de 200mm et peut être utilisé pour la fabrication de plaquettes de production. Les composants principaux de l'unité HMW 201B 5K comprennent un laser, un filtre spatial, une optique de mise en forme du faisceau, un miroir de balayage, un ensemble d'étages de masque et un contrôleur. Le laser est 5 kW, Q-switched Nd : le laser de pompe de diode d'état solide d'YVO4 qui émet dans la gamme visible pour l'écriture de masque et la lithographie. Le laser peut produire des lignes et des espaces précis et à haute résolution jusqu'à 5 microns de largeur et de hauteur. La machine de filtrage spatial limite la divergence du faisceau laser et facilite l'amélioration du parallélisme du faisceau afin que les lignes et les espaces puissent être écrits avec précision. L'optique de mise en forme du faisceau comprend une lentille télescopique 10x, deux déflecteurs de miroir et deux télescopes 4x. Le miroir de balayage dirige le faisceau laser pour couvrir l'ensemble du masque de 200 mm de large en un seul passage, l'étage de masque est conçu pour maintenir le masque en place et le déplacer de manière synchronisée pour faciliter l'exposition au champ plein. Le contrôleur est conçu pour fournir un contrôle de précision et des commandes d'entrée aux différents composants de l'outil. Il dispose d'une interface facile à utiliser et offre une variété de fonctions pour le modèle et l'entrée de données d'image. Cela garantit une exposition uniforme et fiable sur l'ensemble du masque de 200 mm. ORC HMW 201B 5K actif est très fiable et résistant aux vibrations, à la poussière et aux contaminants. Son design peu profilé et sa faible empreinte permettent de l'intégrer facilement dans une variété d'environnements. Il est également conçu pour améliorer le confort de l'utilisateur, avec un flux de travail simple et intuitif qui nécessite peu ou pas d'entraînement. Le modèle est idéal pour les applications de lithographie et d'écriture de masque de haute précision en raison de sa large gamme de fonctions, de sa haute résolution et de son contrôle précis. Il est utilisé dans la production de plusieurs types de dispositifs semi-conducteurs en plus de nouvelles applications innovantes.