Occasion ORC HMW 201B 5K #9384302 à vendre en France

ORC HMW 201B 5K est un équipement d'exposition haute performance et haute précision conçu pour produire d'excellents résultats pour les processus d'exposition et de lithographie. Le système est équipé d'un objectif de haut grossissement qui fournit une ouverture modérée-numérique et un grand dépôt de vue. Cela le rend adapté à une grande variété d'applications d'exposition. L'unité dispose d'une zone de travail 5K plein champ et est capable de reproduire avec précision des images de motifs avec une taille minimale de 7 nm. Il en résulte un placement très précis des caractéristiques précises de micro-échelle et des motifs de contraste élevé. La machine est également conçue pour permettre un déplacement rapide de grands champs de vision, permettant une exposition rapide et l'acquisition de données. L'outil est équipé d'un atout exclusif d'alignement et de suivi automatique pour assurer la précision et la répétabilité. Le modèle est capable de détecter de fines variations de tolérance et peut alors ajuster ses paramètres en conséquence. Cela réduit considérablement les erreurs de positionnement des réticules et maximise la qualité d'image. De plus, l'équipement dispose d'un système intégré de contrôle de la qualité qui surveille le processus d'imagerie et peut alerter l'opérateur de tout résultat insatisfaisant. L'unité est également conçue pour être très configurable. Il est capable d'offrir des paramètres de lentilles réglables, de multiples options pour les sources d'éclairage, et peut fournir une flexibilité dans les temps d'exposition et les niveaux de puissance. Cela le rend adapté à un large éventail d'applications, y compris la lithographie photomasque, la lithographie nano-imprimante, et une variété d'autres applications. Enfin, la machine est conçue avec une interface robuste et conviviale. Les opérateurs peuvent facilement programmer l'outil pour obtenir les résultats d'exposition souhaités. Des options d'automatisation sont également disponibles et peuvent grandement réduire le temps d'exposition tout en garantissant des résultats d'imagerie reproductibles. En résumé, HMW 201B 5K est un actif d'exposition haute performance et haute précision conçu pour d'excellents résultats. Avec son objectif réglable et ses multiples options d'éclairage, il peut être utilisé dans une variété d'applications de lithographie et d'imagerie. L'alignement et le suivi automatiques et le modèle intégré de contrôle de la qualité garantissent la précision et la répétabilité. Enfin, l'équipement dispose d'une interface conviviale robuste et supporte l'automatisation pour des expositions plus rapides et des résultats fiables.