Occasion ORC HMW-615N-4 #9138204 à vendre en France

ORC HMW-615N-4 est un équipement d'exposition puissant et efficace conçu pour une utilisation avec une variété de processus de photolithographie. Ce système est équipé d'une source laser HeNe 515nm, permettant une large plage d'exposition de 0,5 μ m à 6 μ m. De plus, l'unité est capable d'une puissance de sortie de 800 W/cm2 et d'un alignement de haute précision à l'aide d'échelles micrométriques. La source laser de la machine est extrêmement fiable et précise, permettant un débit élevé tout en maintenant une qualité exceptionnelle des résultats. En outre, la source laser est équipée de capacités de réglage de la longueur d'onde et de la bande passante, offrant une grande flexibilité aux utilisateurs et permettant l'utilisation de l'outil d'exposition dans une variété de processus de photolithographie. L'actif est équipé d'un module d'optique active (AOM), permettant un alignement précis du modèle et des réglages précis de la position de visualisation du substrat. En outre, l'équipement peut être équipé soit d'un étage manuel, soit d'un étage motorisé pour un positionnement aisé du substrat, précisément commandé par un joystick ou une commande informatique. De plus, la source laser peut être alignée avec précision à l'aide d'échelles micrométriques. En termes de sécurité, ORC HW-615N-4 est équipé de plusieurs dispositifs de sécurité. Il s'agit notamment de capteurs de contre-pression, d'un interrupteur d'arrêt d'urgence, d'un bouton d'arrêt d'urgence, d'un filtre d'échappement et d'un ventilateur de refroidissement d'urgence pour prévenir l'accumulation excessive de chaleur. En termes d'utilisation, le système offre une grande variété d'applications, le rendant parfait pour les procédés de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est également extrêmement convivial, permettant une large gamme d'options d'ajustement faciles à comprendre et de presets qui peuvent être configurés rapidement pour répondre aux besoins de l'utilisateur. HMW-615N-4 est une unité d'exposition compacte et rentable avec une gamme impressionnante de caractéristiques qui le rendent idéal pour les processus de photolithographie. Ses performances fiables, ses réglages réglables et ses caractéristiques de sécurité en font un choix idéal pour les procédés à haut débit dans l'industrie des semi-conducteurs.