Occasion ORC HMW 680G-20EC #293636469 à vendre en France

ORC HMW 680G-20EC est un équipement d'exposition de précision conçu pour une exposition précise et fiable à haute résolution, masques lithographiques et autres formats d'imagerie. Le système d'exposition se compose d'un 680W le réflecteur xenon-rempli, un condensateur de quartz de 20 éléments et une tête de scanner de trame. L'unité est capable de produire des temps d'exposition aussi rapides que 0,3-0,5 ms et avec une résolution maximale de 3,5 microns, il est idéal pour une production de masque lithographique de haute qualité. La machine dispose également d'un outil anti-lumière de protection contre la surexposition, ainsi que d'une puissance de sortie élevée qui est auto-ajusté et contrôlé par un atout programmable de commande. Le modèle fonctionne en utilisant le réflecteur rempli de xénon 680W, un condenseur à quartz de 20 éléments et la tête de balayage raster pour produire le temps d'exposition. Le réflecteur est en aluminium très poli avec un facteur de puissance (PF) de 0,98, ce qui le rend jusqu'à 20 % plus efficace que les autres réflecteurs sur le marché. Le condenseur à quartz comporte 20 éléments et est conçu pour fournir un éclairage optimal pour l'imagerie haute résolution, minimisant l'atténuation de la lumière et produisant une distribution uniforme de la lumière à la tête d'exposition. La tête de balayage de raster prend alors un motif de pixel prédéterminé et le rastérise sur le substrat. L'équipement dispose également d'une puissance de sortie élevée qui est auto-réglable et peut être réglé à l'aide du système de contrôle manuel ou automatisé. L'unité de commande manuelle permet à l'opérateur de régler manuellement le temps d'exposition et la puissance, tandis que la machine automatisée peut être programmée pour ajuster automatiquement les réglages. De plus, l'outil dispose d'une fonction de nivellement automatique, permettant à un opérateur d'augmenter le temps d'exposition au besoin. En plus de ses performances, HMW 680G-20EC offre une stabilité inégalée, une répétabilité à long terme et une robustesse qui en font un choix idéal pour les environnements de production. Tous les composants sont conçus pour résister aux températures extrêmes et à d'autres changements environnementaux, assurant un fonctionnement fiable dans les conditions les plus difficiles. L'actif est conçu pour produire des expositions précises et cohérentes, produisant des résultats répétables et prévisibles même après des années d'utilisation. Dans l'ensemble, ORC HMW 680G-20EC est un modèle d'exposition avancé, fiable et riche en fonctionnalités qui est optimisé pour la production de masques lithographiques haute résolution et d'autres applications d'imagerie. Avec sa puissance de sortie élevée, sa vitesse d'exposition découplée et ses années de performances fiables, c'est un choix idéal pour les environnements de production qui dépendent de la précision et des résultats reproductibles.