Occasion ORC HMW680GW #9255676 à vendre en France

ORC HMW680GW est un équipement d'exposition éprouvé qui utilise la technologie du faisceau électronique pour une grande variété d'applications dans l'industrie des photomasques et des semi-conducteurs. Le système est conçu pour fournir un contrôle précis de l'exposition et des résultats à haute résolution avec un rendement, une fiabilité et une répétabilité excellentes. L'unité d'exposition fonctionne à l'aide d'une machine à double déflecteur pour fournir un balayage précis du faisceau d'électrons dans les modes raster et vecteur. Le faisceau d'électrons a une large dynamique, une sortie linéaire sur une large plage de fonctionnement et une excellente répétabilité sur de longs cycles. L'alimentation haute tension est stable et linéaire, et la tension d'accélération de l'outil est programmable. L'alimentation intégrée et le taux d'analyse rapide de l'actif en font un choix idéal pour les applications à haut débit. ORC HMW 680GW dispose d'une interface utilisateur intuitive et fournit aux utilisateurs une interface graphique facile à suivre. Les performances des modèles peuvent être contrôlées et gérées au moyen d'un ensemble complet d'indicateurs et de dispositifs de sécurité qui peuvent être mis en place, personnalisés et contrôlés. Le système de stockage hiérarchique (HSS) et la plate-forme ouverte de l'équipement offrent un accès flexible à différents types de données de masque, permettant un contrôle complet de l'utilisateur sur le format des données et les options de stockage. La plate-forme ouverte fournit un soutien pour une gamme de différents types de données, y compris des données ponctuelles, vectorielles et d'exposition à la surface sous différents formats. L'unité dispose d'une base de données de modèles en temps réel qui peut être consultée et analysée pour assurer le plus haut niveau de performance de la machine. L'outil de gestion intégrée des plaquettes comprend une cassette de plaquettes, ainsi qu'un étage de plaquettes conçu pour une intégrité et une précision maximales des plaquettes. Le modèle dispose d'un module processus-gaz avancé pour assurer des conditions de processus exactes et efficaces et contrôlées. L'équipement offre la possibilité d'avoir un module robotique embarqué qui permet une simple application de masque sur les plaquettes. HMW680GW est un choix idéal pour diverses exigences d'exposition dans l'industrie des photomasques et des semi-conducteurs. Avec ses fonctionnalités avancées et conviviales, ce système d'exposition est l'une des solutions les plus fiables et efficaces pour obtenir un rendement, une qualité et une productivité supérieures.