Occasion ORC HMW680GW #9384301 à vendre en France

L'équipement d'exposition ORC HMW680GW est l'un des outils les plus avancés disponibles pour les fabricants de photomasques. Il utilise une forme hautement spécialisée de technologie laser excimère pour créer les motifs extrêmement fins sur les photomasques. Avec sa taille compacte, sa productivité élevée et ses excellents résultats, il est un outil inestimable pour les fabricants de photomasques et les laboratoires de recherche. Le système intègre une source laser excimère avancée couplée à un étage de masque optique de haute précision. La source laser utilise du gaz Xénon et la longueur d'onde d'exposition est typiquement de 248nm ; de plus, le taux de répétition des impulsions est réglable de 5kHz à 25kHz. Il est réglable par l'utilisateur pour varier une gamme de profondeurs d'exposition de 50nm à plus de 1um. L'unité d'exposition dispose également d'une machine autofocus avancée qui utilise l'interférométrie laser afin de focaliser rapidement et avec précision le faisceau laser sur le photomasque. L'outil autofocus est couplé avec un étage de haute précision pour le positionnement xy-stage afin d'assurer davantage la précision et la stabilité de l'exposition du masque. En plus de sa capacité exceptionnelle d'exposition par laser, ORC HMW 680GW soutient également l'exposition des matériaux sensibles à la lumière par photolithographie et sizaigefuro. Cela permet aux utilisateurs d'utiliser une gamme de sources lumineuses communes, telles que les lampes à arc à jour, ainsi que des sources lumineuses spécialisées telles que les DEL UV profondes. HMW680GW l'actif exposé offre un haut degré de contrôle et de précision sur les paramètres d'exposition. Cela permet aux utilisateurs de peaufiner les paramètres d'exposition en fonction de leurs besoins, même lorsqu'ils travaillent avec des substrats difficiles tels que des plaquettes très minces. En outre, le modèle comprend également une variété de fonctionnalités automatisées qui permettent un flux de travail plus efficace, plus rapide et plus pratique. Dans l'ensemble, l'équipement d'exposition HMW 680GW fournit aux fabricants de photomasques et aux laboratoires de recherche un outil puissant pour produire des modèles de haute qualité sur les photomasques. Ses performances polyvalentes et ses fonctionnalités haut de gamme telles que l'autofocus et la vitesse d'impulsion laser ajustable par l'utilisateur permettent une production efficace de photomasques avec des motifs extrêmement fins. Le système est bien adapté à la recherche et au développement, ainsi qu'aux laboratoires de production.