Occasion SEIWA PA-920V-INL-5 #9293008 à vendre en France

SEIWA PA-920V-INL-5 est un équipement d'exposition très avancé et sophistiqué pour la production de photomasques. Le système est conçu pour produire des masques avec des caractéristiques de 0,5 µm ou moins. Il dispose d'un écran tactile LCD complet avec un écran de 10,4 pouces pour un contrôle facile des fonctions de l'appareil. Cette machine conviviale offre une variété d'options d'exposition et de recettes qui peuvent être adaptées aux besoins du client. PA-920V-INL-5 comporte une source de dépôt de film évaporé pour superposer la plaque de chrome avec une couche de résine optimisée. On obtient ainsi une meilleure résolution et des énergies de diffraction plus élevées, ce qui permet une meilleure qualité d'imagerie du photomasque. La source de dépôt est également capable de couvrir toute la surface de la plaque, ce qui élimine la nécessité d'utiliser un masquage manuel. L'outil est équipé d'un traceur électronique et d'une source d'exposition à LED. Le traceur est conçu pour tracer avec précision et créer des motifs dans la plaque de chrome avant l'exposition. La source d'exposition à LED utilise les dernières technologies de pointe pour fournir un éclairage fiable et uniforme. Cela permet une imagerie précise des motifs qui ont été créés avant l'exposition. Une caractéristique unique de SEIWA PA-920V-INL-5 est son actif sous vide sophistiqué. Le vide permet non seulement une meilleure uniformité de l'épaisseur de la couche de résistance sur le substrat, mais aussi une meilleure observation oculaire des plaques exposées. Avec le modèle de vide, PA-920V-INL-5 a la capacité de détecter automatiquement le niveau de pression de vide, ce qui se traduit par une amélioration de la formation du photomasque. SEIWA PA-920V-INL-5 peut être utilisé avec une variété de masques de contact et de disques de broyage pour fournir les conditions de polissage idéales. Cela permet un polissage uniforme du photomasque conformément aux exigences du client. L'équipement peut également être utilisé avec une chambre multi-traitement et une unité de gravure acide pour un contrôle plus précis. Avec l'état de la technologie d'art incorporée dans le système d'exposition de PAPA 920V INL 5, les besoins de photomasque aussi petits que 0,5 µm peuvent être systématiquement et efficacement produits. L'unité est conçue pour la facilité d'utilisation et la flexibilité maximale dans un seul emballage. Il intègre des procédés sophistiqués de vide et d'optimisation pour fournir une qualité supérieure de production de photomasques à un prix abordable.