Occasion SEIWA PA-920V-INL-7 #9293010 à vendre en France

SEIWA PA-920V-INL-7 est un équipement d'exposition conçu pour la production de photomasques dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Il s'agit d'une plate-forme de scanner pas à pas avec un étage de photomasque carré de 6 po et une double table de 11 po, permettant une grande taille de photomasque et un débit élevé. Le système offre une résolution pouvant atteindre 0,25 μ m et utilise une optique de projection UV profonde à haute intensité, à champ divisé, à tube de stockage quad pour l'exposition. La machine intègre un outil de contrôle de mouvement de haute précision pour obtenir une précision de positionnement plus élevée et un mouvement sans scrupule optimisé. Avec un balayage jusqu'à 2,3 secondes sur ses champs d'image de 8 ", l'actif est conçu pour réduire la complexité de la production de gros photomasques. Ses options avancées d'algorithme d'exposition lui permettent de gérer même les formes les plus complexes. Le modèle peut être conçu pour diverses utilisations, telles que le temps d'exposition court, l'écriture directe au laser et l'exposition en mode mixte. Sa conception modulaire permet un passage rapide entre différentes applications d'exposition et la possibilité de mettre à niveau facilement pour répondre aux nouvelles exigences des processus. En outre, l'équipement bénéficie d'une longue durée de vie, même par une utilisation continue. PA-920V-INL-7 est équipé de fonctionnalités avancées telles que l'auto-focus, l'alignement spécifique à l'application et l'optimisation de l'exposition automatique. Auto-focus combine la reconnaissance de la forme optique du foyer et la mesure de la focalisation pour une précision et une répétabilité supérieures. Le module d'alignement, en revanche, aligne automatiquement les photomasques en fonction de leurs caractéristiques de conception inhérentes. Le module d'auto-exposition permet au système d'optimiser les paramètres d'exposition pour chaque couche de la photomasque produite. L'unité offre des capacités complètes d'inspection et d'analyse après exposition. Il offre une reconstruction de plaquettes 3D et une machine de détection de points chauds pour garantir l'excellence du rendement. Il fournit également des capacités étendues d'enregistrement des données, permettant aux opérateurs de suivre les paramètres critiques pendant la production. L'outil peut être connecté à plusieurs périphériques, tels que des caméras de contrôle supplémentaires et des accessoires de métrologie, afin d'assurer le contrôle de la qualité. SEIWA PA-920V-INL-7 est un actif d'exposition hautement fiable et rentable pour la production de photomasques. Avec ses fonctionnalités et capacités avancées, ce modèle élimine les tracas et le temps associés à la production de photomasques. Il permet un débit élevé, une précision supérieure et des performances répétables, ce qui en fait une solution idéale pour la fabrication moderne de semi-conducteurs.