Occasion ULTRA OPTICS MR3 #9305723 à vendre en France

ULTRA OPTICS MR3 est un équipement d'exposition conçu par ULTRA OPTICS, Inc. pour les procédés de photolithographie utilisés dans la production de semi-conducteurs. Il utilise une courte longueur d'onde de lumière ultraviolette extrême (EUV) pour projeter des motifs sur une plaquette de silicium. Le système peut exposer des motifs de différentes tailles et résolutions, et peut être utilisé pour créer une variété de dispositifs semi-conducteurs complexes. L'unité d'exposition comprend trois éléments : la source, l'optique de projection et le masque. La source produit le rayonnement EUV, qui est focalisé dans un faisceau serré et étroitement défini par l'optique de projection. Le masque, qui tient le motif à exposer, est placé sur le chemin du faisceau. La source lumineuse utilisée par MR3 est un laser EUV produit par un laser relativiste à faisceau d'électrons. Ce laser émet de la lumière avec une longueur d'onde de 13,5 nm - beaucoup plus courte que le spectre visible - et a un diamètre de faisceau de 0,6 mm. Cette longueur d'onde est suffisamment courte pour pouvoir pénétrer à travers les couches de résistivité élevée d'une plaquette de silicium, permettant de graver des motifs sur le substrat. Les optiques de projection, qui servent de lentille pour le faisceau EUV, sont conçues pour la projection haute résolution. Ils sont composés d'une série de miroirs magnéto-optiques et multicouches et de lentilles qui focalisent le faisceau sur la plaquette. La distance focale de l'optique peut être ajustée pour faire varier la taille du motif projeté. Le masque, qui est composé d'un ensemble de motifs métalliques réfléchissants, est le composant clé de la machine. Il est placé dans le trajet de la poutre, de sorte que les motifs sont projetés sur la plaquette. Les motifs eux-mêmes, qui peuvent être des formes simples ou des conceptions plus complexes, sont choisis en fonction du résultat souhaité. Ensemble, ces trois composants - la source, l'optique et le masque - constituent l'outil d'exposition ULTRA OPTICS MR3. Comme l'un des systèmes d'exposition EUV les plus avancés sur le marché, il est capable de produire des dispositifs semi-conducteurs complexes avec une vitesse et un détail exceptionnels. L'atout peut être utilisé pour créer une grande variété de transistors, de grilles logiques et d'autres composants utilisés dans la fabrication de circuits intégrés semi-conducteurs.