Occasion USHIO PE-250D3NP #9128108 à vendre en France

USHIO PE-250D3NP est un équipement d'exposition de haute qualité, conçu pour être utilisé dans le processus de photolithographie utilisé dans toute l'industrie des semi-conducteurs. Il est doté d'une lampe à arc pulsé à halogénure métallique à haute pression de 375 watts pour les plus hauts niveaux d'éclairage, permettant un contrôle serré des processus et des temps de cycle bas. Il offre également une précision de mesure supérieure pour les processus les plus complexes, et ses performances stables et répétables le rendent idéal pour une utilisation à la fois dans l'exposition des plaquettes et des réticules. Le système est composé de plusieurs composants principaux, d'une source lumineuse, d'une lentille de projection, d'un étage réticulaire et d'un étage d'exposition. La source lumineuse se compose de l'alimentation et de la lampe, qui émet une lumière de haute intensité. La lentille de projection est une lentille optique de haute précision, capable de projeter une image détaillée sur une plaquette ou un matériau réticulaire. L'étage réticulaire maintient le substrat et déplace le motif de masque sous la lentille pour la projection sur le substrat. L'étage d'exposition est contrôlé par un ordinateur, et déplace le matériau de la plaquette dans le motif requis, et focalise également l'objectif pour une image claire. PE-250D3NP est capable d'obtenir une ouverture numérique (NA) de 0,250, avec une plage de grossissement de 5x à 40x. Avec un champ de vision de 1.4x1.9mm, la taille de l'image de projection a une plage de 0.25um à 2.0um, ce qui le rend adapté à une grande variété de processus. En outre, le format 4x3 permet trois zones d'exposition individuelles dans le même champ de vision, ce qui permet des cycles de processus plus rapides et une meilleure efficacité de sortie de la source. L'unité est conviviale et hautement configurable. Le panneau de commande, qui peut être monté sur la machine ou télécommandé, peut être utilisé pour contrôler toutes les opérations majeures. De plus, les diagnostics intégrés permettent un suivi continu des progrès et alertent les opérateurs lorsque des changements de paramètres sont survenus. Dans l'ensemble, USHIO PE-250D3NP est un outil d'exposition idéal pour les applications nécessitant la plus grande précision et la plus grande précision dans le processus de photolithographie, et est particulièrement utile en cas de défis de performance. Avec sa précision de mesure supérieure, ses performances stables et reproductibles et ses temps de cycle rapides, PE-250D3NP est un excellent choix pour les applications avancées de photolithographie.