Occasion USHIO UMA-802-HC55RM #9392072 à vendre en France

L'équipement d'exposition USHIO UMA-802-HC55RM est un aligneur de masque à faisceau unique de haute précision. Il est conçu pour la photolithographie et la technologie nanoimprint, offrant un placement et une imagerie très précis du matériau photosensible. Le système comprend une source de lumière UV compacte refroidie à l'air, une plaque à vide de 80 mm et une unité d'alignement de vision automatique. La source de lumière UV est équipée d'une lampe à arc à halogénure métallique, d'une puissance de 250 watts et d'une longueur d'onde d'exposition de 350 à 450 nanomètres. Son réflecteur en quartz assure une focalisation précise de la lumière, et ses alimentations de 1500 watts garantissent des performances fiables et constantes. La source lumineuse est très fiable et peut être utilisée en continu pendant de longues périodes. La plaque à vide UMA-802-HC55RM est de construction élevée et présente une plage de mouvement circulaire de 16 micro-mètres, garantissant une excellente précision de placement des matériaux photosensibles. La plaque est conçue pour maintenir sa précision pour une saleté sur sa surface, tandis que le mouvement de la plaque est également aidé par des vis d'entraínement différentiel. La plaque à vide permet également le déplacement à l'intérieur des axes X et Y pour un alignement plus précis. La machine d'alignement automatique de vision d'USHIO UMA-802-HC55RM est très précise et peut être programmée pour rechercher et aligner le matériau photosensible sur un modèle de superposition prédéfini. Cela garantit un processus précis et répétable à chaque fois. L'outil d'alignement comprend également une fonction auto-focus, permettant aux utilisateurs de profiter de ses capacités dans des applications telles que la lithographie nanoimprint. Enfin, UMA-802-HC55RM actif d'exposition dispose d'un ensemble optique avancé. Le boîtier optique comprend une lentille achromatique, un séparateur de faisceau et une ouverture. L'optique élimine efficacement tout problème d'aberration, ce qui permet une homogénéité et une efficacité des longueurs d'onde. L'optique dispose également d'un modèle d'expansion dans la gamme UV, permettant la formation d'images à plus grande vitesse. Dans l'ensemble, USHIO UMA-802-HC55RM est une unité de production de pointe, adaptée à la photolithographie et à la technologie des nanoimproints. Il offre des performances fiables et cohérentes avec un alignement de masque à faisceau unique de haute précision, une source lumineuse UV puissante, une plaque à vide très précise, un système d'alignement de vision automatique avancé, et un ensemble optique avancé. UMA-802-HC55RM est un excellent choix pour les laboratoires nécessitant une unité d'exposition fiable et précise.