Occasion EDWARDS EUV Ezenith #9300637 à vendre en France
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ID: 9300637
Abatement and pump rack
Used for ASML EUV Lithography systems
(2) EDWARDS Atlas Nova Abatement systems
(8) EDWARDS Pump racks
(9) EDWARDS pHX6000 Pumps, Running hours: 2,300 to 3,000
(9) EDWARDS iXH3045H Dry vacuum pumps
P/N: NRE418000
Running hours: 7,500 to 8,500.
EDWARDS EUV Ezenith est un équipement d'installation conçu pour les applications de lithographie à semi-conducteur. C'est un outil essentiel pour la production d'images haute résolution de circuits intégrés, d'écrans plats et de systèmes microélectromécaniques (MEMS). L'Ezenith utilise le rayonnement ultraviolet extrême (EUV) afin de créer des images sur ces composants, permettant des caractéristiques précises avec un faible risque de contamination. L'Ezenith a une large gamme de longueurs d'onde, de 7.0nm à 40.0nm, ce qui signifie que toute application de lithographie EUV peut l'utiliser. En outre, sa grande ouverture optique lui permet de créer de longues longueurs focales qui permettent l'imagerie de plus grandes tailles avec une résolution plus élevée. L'Ezenith offre également une répétabilité élevée des processus en raison de son environnement sous vide et à température contrôlée, ainsi que de son cadre à haute rigidité. Cela garantit que l'outil de lithographie va recréer le même motif sur un projet à chaque fois qu'il est utilisé. L'équipement d'optique active d'Ezenith aide à l'alignement précis des composants tandis que ses grandes lentilles zonales dynamiques permettent une imagerie parfaite des substrats. Le système d'imagerie est équipé de capteurs à haute sensibilité qui garantissent la clarté de l'image et un alignement de haute précision tout en minimisant le temps d'exposition. L'Ezenith contient également une interface utilisateur personnalisable qui permet un fonctionnement facile de la machine et la personnalisation des paramètres de diffraction, d'imagerie et de numérisation. Ces fonctionnalités permettent à l'Ezenith d'obtenir la meilleure efficacité de flux de travail possible. Tout cela est supporté par une unité d'asservissement avancée qui empêche la machine de s'écraser ou de mal fonctionner. La machine d'asservissement d'Ezenith aide également à réduire les vibrations, un problème qui peut causer des interférences dans les images si elles ne sont pas contrôlées. Enfin, l'Ezenith dispose d'options d'entretien faciles, ce qui en fait un choix idéal pour les ateliers de fabrication de salles blanches et de semi-conducteurs. Il peut être configuré pour s'autodiagnostiquer, identifier les problèmes et permettre une recalibration si nécessaire. Cela élimine la nécessité d'arrêter la machine pendant les réparations, ce qui lui permet d'obtenir un temps de fonctionnement maximal. Dans l'ensemble, EUV Ezenith est un équipement d'installation incroyablement avancé pour les applications de lithographie à semi-conducteurs. Ses nombreuses fonctionnalités, telles que son outil d'optique active, ses lentilles zonales, son outil d'asservissement et son interface conviviale, en font un choix parfait pour les magasins de fabrication de salles blanches et de semi-conducteurs à la recherche de vitesse, de précision et de répétabilité.
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