Occasion LAM RESEARCH OX-DEP.A3 #293628077 à vendre en France
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LAM RESEARCH OX-DEP.A3 est un équipement de haute performance utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour graver et déposer des couches minces d'oxygène sur des surfaces de plaquettes de silicium. Ce procédé est appelé dépôt de bœuf et est utilisé pour créer des couches ultra-minces à haute conductivité électrique, par exemple pour des éléments de transistor ou d'autres composants électroniques. L'équipement a été conçu pour fonctionner avec un maximum d'efficacité et fournir une plate-forme de procédé stable pour une large gamme d'applications de gravure et de dépôt d'oxyde, allant du dépôt peu coûteux d'oxyde peu profond aux gravures d'oxyde à haute température et à masque élevé. Le OX-DEP.A3 dispose d'un système de distribution de gaz efficace pour assurer un contrôle précis des gaz et fournir des taux de gravure et de dépôt uniformes et précis sur toute la surface de la plaquette. Cette capacité est rendue possible par l'utilisation de multiples assemblages de mandrin d'oxyde d'aluminium à haut débit (Al2O3) et d'injecteurs de piézo-quartz. L'équipement assure un haut niveau de contrôle à toutes les étapes du cycle de gravure/dépôt - y compris le chargement et la manutention des plaquettes, les vitesses uniformes de gravure et de dépôt, l'uniformité de l'épaisseur des matériaux et la contamination minimale. Le processus de dépôt de bœuf sur le OX-DEP.A3 est entièrement automatisé et surveillé, ce qui lui permet d'obtenir des résultats de qualité à grande vitesse. Les systèmes de contrôle numérique avancés permettent aux techniciens d'ajuster rapidement les paramètres de processus programmés et de permettre la rétroaction et la surveillance en temps réel. Pour assurer une performance optimale, des techniques de surveillance in situ avancées telles que l'Ultra High Vacuum (UHV) sont utilisées pour détecter les contaminants et s'assurer que le taux de dépôt, le débit et le bombardement ionique sont dans des limites acceptables. Le OX-DEP.A3 est conçu avec une grande chambre en acier inoxydable de 3800mm x 2700mm x 800mm (W x D x H), un fonctionnement haute pression jusqu'à 600mtorr, et une capacité de chauffage de 10 000 watts de résistance. Cet équipement d'installation performant est conçu pour être à la fois robuste et fiable, avec une capacité à fournir la précision, un débit élevé et un entretien faible requis pour les processus efficaces de gravure et de dépôt des oxydes. Sa combinaison de fonctionnalités avancées, de technologie de surveillance avancée et de performances fiables en font le choix idéal pour les applications de recherche et de production.
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